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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第1618位 15件
(2018年:第5373位 3件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第23568位 0件
(2018年:第23370位 0件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2019-209322 | ガス分配システムおよびそれを備える反応器システム | 2019年12月12日 | |
特開 2019-210550 | 気相化学反応器およびその使用方法 | 2019年12月12日 | |
特開 2019-205995 | 水素ラジカルを使用するための装置およびその使用方法 | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-203191 | 基材処理装置および方法 | 2019年11月28日 | |
特開 2019-176147 | 基材処理装置及び方法 | 2019年10月10日 | |
特開 2019-176148 | 基材ラックならびに基材処理システムおよび方法 | 2019年10月10日 | |
特開 2019-169701 | ハイブリッドリフトピン | 2019年10月 3日 | |
特開 2019-161227 | 反応器、反応器を含むシステム、並びにこれを製造する方法及び使用する方法 | 2019年 9月19日 | |
特表 2019-523558 | ギャップを充填する方法及び装置 | 2019年 8月22日 | |
特開 2019-95794 | 改良された未露光フォトレジスト層の形成方法 | 2019年 6月20日 | |
特開 2019-71404 | 半導体加工装置および半導体加工装置を較正する方法 | 2019年 5月 9日 | |
特開 2019-63792 | 化学物質を反応チャンバへ分注する化学物質分注装置および方法 | 2019年 4月25日 | |
特開 2019-44266 | 層形成方法 | 2019年 3月22日 | |
特開 2019-36717 | 基材リフト機構及びこれを含む反応器 | 2019年 3月 7日 | |
特開 2019-33249 | 単一処理チャンバー内の半導体膜からの酸化物及び炭素の除去のための装置及び方法 | 2019年 2月28日 |
15 件中 1-15 件を表示
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2019-209322 2019-210550 2019-205995 2019-203191 2019-176147 2019-176148 2019-169701 2019-161227 2019-523558 2019-95794 2019-71404 2019-63792 2019-44266 2019-36717 2019-33249
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3月26日(水) - 東京 港区
3月26日(水) -
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4月1日(火) - 山口 山口市
4月1日(火) -
4月2日(水) -
4月2日(水) -
4月4日(金) -
4月1日(火) - 山口 山口市
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