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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第1618位 15件 (2018年:第5373位 3件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第23568位 0件 (2018年:第23370位 0件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2019-209322 | ガス分配システムおよびそれを備える反応器システム | 2019年12月12日 | |
特開 2019-210550 | 気相化学反応器およびその使用方法 | 2019年12月12日 | |
特開 2019-205995 | 水素ラジカルを使用するための装置およびその使用方法 | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-203191 | 基材処理装置および方法 | 2019年11月28日 | |
特開 2019-176147 | 基材処理装置及び方法 | 2019年10月10日 | |
特開 2019-176148 | 基材ラックならびに基材処理システムおよび方法 | 2019年10月10日 | |
特開 2019-169701 | ハイブリッドリフトピン | 2019年10月 3日 | |
特開 2019-161227 | 反応器、反応器を含むシステム、並びにこれを製造する方法及び使用する方法 | 2019年 9月19日 | |
特表 2019-523558 | ギャップを充填する方法及び装置 | 2019年 8月22日 | |
特開 2019-95794 | 改良された未露光フォトレジスト層の形成方法 | 2019年 6月20日 | |
特開 2019-71404 | 半導体加工装置および半導体加工装置を較正する方法 | 2019年 5月 9日 | |
特開 2019-63792 | 化学物質を反応チャンバへ分注する化学物質分注装置および方法 | 2019年 4月25日 | |
特開 2019-44266 | 層形成方法 | 2019年 3月22日 | |
特開 2019-36717 | 基材リフト機構及びこれを含む反応器 | 2019年 3月 7日 | |
特開 2019-33249 | 単一処理チャンバー内の半導体膜からの酸化物及び炭素の除去のための装置及び方法 | 2019年 2月28日 |
15 件中 1-15 件を表示
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2019-209322 2019-210550 2019-205995 2019-203191 2019-176147 2019-176148 2019-169701 2019-161227 2019-523558 2019-95794 2019-71404 2019-63792 2019-44266 2019-36717 2019-33249
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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