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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第1238位 20件 (2019年:第1618位 15件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第24204位 0件 (2019年:第23568位 0件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2020-114940 | 周期的堆積プロセスにより基材上に遷移金属含有膜を形成する方法 | 2020年 7月30日 | |
特開 2020-94279 | 周期的堆積プロセスにより基材上にレニウム含有膜を形成する方法及び関連する半導体デバイス構造 | 2020年 6月18日 | |
特開 2020-84323 | 周期的堆積プロセスにより基材上に遷移金属カルコゲン化物膜を堆積させる方法 | 2020年 6月 4日 | |
特開 2020-84330 | 紫外線反応性金属酸化物含有膜を形成する方法 | 2020年 6月 4日 | |
特表 2020-516047 | 基材上に構造を形成する方法 | 2020年 5月28日 | |
特表 2020-516059 | 半導体デバイスを製造するための装置および方法 | 2020年 5月28日 | |
特開 2020-77854 | 基材処理装置および方法 | 2020年 5月21日 | |
特開 2020-77871 | 基材を処理するための基材処理装置 | 2020年 5月21日 | |
特開 2020-74354 | 基材処理装置および方法 | 2020年 5月14日 | |
特開 2020-68382 | プレクリーンおよびエッチング装置のための高温コーティングならびに関連する方法 | 2020年 4月30日 | |
特開 2020-57782 | 基材保持装置、装置を含むシステム、およびその使用方法 | 2020年 4月 9日 | |
特開 2020-47919 | カセットの格納および取り扱いのためのカセット供給システム、ならびにそれを装備した加工装置 | 2020年 3月26日 | |
特開 2020-43341 | 基材処理装置および方法 | 2020年 3月19日 | |
特表 2020-507004 | 逐次浸透合成装置 | 2020年 3月 5日 | |
特開 2020-29616 | 基材および関連する半導体デバイス構造の誘電体表面上にモリブデン金属膜を堆積する方法 | 2020年 2月27日 |
20 件中 1-15 件を表示
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2020-114940 2020-94279 2020-84323 2020-84330 2020-516047 2020-516059 2020-77854 2020-77871 2020-74354 2020-68382 2020-57782 2020-47919 2020-43341 2020-507004 2020-29616
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1月31日(金) -
1月31日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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