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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第2865位 7件
(2022年:第14391位 1件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第3124位 5件
(2022年:第2447位 7件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-171842 | 改良された未露光フォトレジスト層の形成方法 | 2023年12月 5日 | |
特開 2023-109926 | 逐次浸透合成装置 | 2023年 8月 8日 | |
特開 2023-85394 | 単一処理チャンバー内の半導体膜からの酸化物及び炭素の除去のための装置及び方法 | 2023年 6月20日 | |
特開 2023-62053 | 化学物質を反応チャンバへ分注する化学物質分注装置および方法 | 2023年 5月 2日 | |
特開 2023-22121 | 周期的堆積により基材上に金属性膜を形成する方法及び関連する半導体デバイス構造 | 2023年 2月14日 | |
特開 2023-18077 | 逐次浸透合成装置 | 2023年 2月 7日 | |
特開 2023-15253 | 半導体処理装置 | 2023年 1月31日 |
7 件中 1-7 件を表示
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2023-171842 2023-109926 2023-85394 2023-62053 2023-22121 2023-18077 2023-15253
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5月16日(金) - 東京 千代田区
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5月20日(火) -
5月21日(水) - 東京 港区
5月21日(水) - 東京 大田区
5月22日(木) - 東京 港区
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5月23日(金) - 東京 千代田区
5月23日(金) - 大阪 大阪市
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