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アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 4846100	ウェーハ欠陥分類	2011年12月28日
特許 4845269	半導体ウエーハ処理システム、コンピュータ可読媒体、及び、半導体プロセスチャンバの洗浄方法	2011年12月28日
特許 4845337	基板を処理ツールへ供給する装置、基板キャリアを移送する方法、およびコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2011年12月28日
特許 4841507	基板を処理する装置及び方法	2011年12月21日
特許 4841721	空中画像を使用するレチクル検査のための方法及び装置	2011年12月21日
特許 4842251	下にあるバリア層への多孔性低誘電率膜の接着を促進する手法	2011年12月21日
特許 4837832	イオン化金属堆積用高密度プラズマ源	2011年12月14日
特許 4838470	ラザフォード後方散乱を用いたイオン注入におけるビームアライメント測定	2011年12月14日
特許 4838492	ＢＰＳＧ堆積のための方法及び装置	2011年12月14日
特許 4832297	イン・シトゥー・プロファイル計測のための渦電流システム	2011年12月 7日
特許 4831910	半導体ウェーハの制御された研磨及びプレーナ化のためのシステム及び方法	2011年12月 7日
特許 4833390	輪郭面を有する静電チャックを形成する方法	2011年12月 7日
特許 4831857	ロボットとリテーナリングとの間で半導体ワークピースを搬送する装置、半導体ワークピースを研磨する装置、及び、ウェーハを検出する装置。	2011年12月 7日
特許 4831858	金属を平坦化するためのＣＭＰスラリー	2011年12月 7日
特許 4833396	主成分分析を用いてプロセスをモニタするための方法	2011年12月 7日

164 件中 1-15 件を表示

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4846100 4845269 4845337 4841507 4841721 4842251 4837832 4838470 4838492 4832297 4831910 4833390 4831857 4831858 4833396

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