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財団法人高知県産業振興センター
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第34895位 0件
（
2012年：第32063位 0件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第4717位 3件
（2012年：第1614位 15件）
（ランキング更新日：2025年1月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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財団法人高知県産業振興センターの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5161450 | プラズマＣＶＤ装置及びプラズマ表面処理方法 | 2013年 3月13日 | 共同出願 |
| 特許 5128792 | 薄膜トランジスタの製法 | 2013年 1月23日 | 共同出願 |
| 特許 5112668 | 半導体装置の製法 | 2013年 1月 9日 | 共同出願 |
3 件中 1-3 件を表示
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5161450 5128792 5112668
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