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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第175位 251件 (2010年:第197位 254件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第233位 152件 (2010年:第279位 110件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-238416 | 非水系電解質二次電池用正極活物質およびその製造方法、ならびに該正極活物質を用いた非水系電解質二次電池 | 2011年11月24日 | |
特開 2011-235314 | Znを主成分とするPbフリーはんだ合金 | 2011年11月24日 | |
特開 2011-236488 | 化学処理装置 | 2011年11月24日 | |
特開 2011-235342 | コーティング膜付きPbフリーZn系はんだ合金及びその製造方法 | 2011年11月24日 | |
特開 2011-235315 | Znを主成分とするPbフリーはんだ合金 | 2011年11月24日 | |
特開 2011-236032 | スプール保持具 | 2011年11月24日 | |
特開 2011-238684 | 立体的回路基板の製造方法 | 2011年11月24日 | |
特開 2011-238720 | Bi系はんだ接合用の電子部品と基板及び電子部品実装基板 | 2011年11月24日 | |
特開 2011-230877 | 棚用落下防止具、及びそれを備えた棚 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-231399 | Cu−Ga合金粉末の製造方法及びCu−Ga合金粉末、並びにCu−Ga合金スパッタリングターゲットの製造方法及びCu−Ga合金スパッタリングターゲット | 2011年11月17日 | |
特開 2011-231396 | Cu−Ga合金粉末の製造方法及びCu−Ga合金粉末、並びにCu−Ga合金スパッタリングターゲットの製造方法及びCu−Ga合金スパッタリングターゲット | 2011年11月17日 | |
特開 2011-233646 | 半導体用基板の洗浄方法 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-231266 | 耐湿性に優れた被覆膜付き酸化物蛍光体粒子の製造方法 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-228106 | 導電性ペーストの製造方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-225908 | ニッケル酸化鉱石の湿式精錬プラント及びその操業方法 | 2011年11月10日 |
251 件中 16-30 件を表示
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2011-238416 2011-235314 2011-236488 2011-235342 2011-235315 2011-236032 2011-238684 2011-238720 2011-230877 2011-231399 2011-231396 2011-233646 2011-231266 2011-228106 2011-225908
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
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2月7日(金) -
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