特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ホーム > 特許ランキング > 三菱瓦斯化学株式会社 > 2011年 > 特許一覧

三菱瓦斯化学株式会社

※ ログインすれば出願人(三菱瓦斯化学株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

  2011年 出願公開件数ランキング    第213位 201件 上昇2010年:第267位 178件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第174位 207件 上昇2010年:第188位 176件)

(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年  2013年  2014年  2015年  2016年  2017年  2018年  2019年  2020年  2021年  2022年  2023年  2024年  2025年 

公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 4671018 2−ヒドロキシイソ酪酸グリシジルの製造方法 2011年 4月13日
特許 4671023 バリア性に優れた熱可塑性樹脂組成物及びそれからなる成形体 2011年 4月13日
特許 4671003 ポリフェニレンエーテルの製造方法 2011年 4月13日
特許 4670680 透明樹脂製の導光板、及び、面状光源装置、並びに、導光板の製造方法 2011年 4月13日
特許 4671012 高純度アダマンタン類の金属成分分析方法 2011年 4月13日
特許 4666127 メタノール改質用反応器 2011年 4月 6日
特許 4666139 メタクリル酸グリシジルの精製方法 2011年 4月 6日
特許 4662026 メタクリル酸グリシジルの製造方法 2011年 3月30日
特許 4662013 ポリアミド樹脂組成物及びその製造方法 2011年 3月30日
特許 4661017 フォトクロミック性を有する透明な合成樹脂積層体 2011年 3月30日
特許 4656294 メタクリル酸グリシジルの製造方法 2011年 3月23日
特許 4654770 シアン酸エステル化合物、難燃性樹脂組成物、並びにこれを用いたプリプレグおよび積層板 2011年 3月23日
特許 4654632 無水ピロメリット酸の製造法 2011年 3月23日
特許 4654515 芳香族ポリカルボン酸の製造方法 2011年 3月23日
特許 4655106 ポリエステル樹脂組成物 2011年 3月23日

207 件中 151-165 件を表示

をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

4671018 4671023 4671003 4670680 4671012 4666127 4666139 4662026 4662013 4661017 4656294 4654770 4654632 4654515 4655106

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。三菱瓦斯化学株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

  • このサイトをYahoo!ブックマークに登録
  • はてなブックマークに追加

特許ランキング

2025年 特許出願件数2025年 特許取得件数
2024年 特許出願件数2024年 特許取得件数
2023年 特許出願件数2023年 特許取得件数
2022年 特許出願件数2022年 特許取得件数
2021年 特許出願件数2021年 特許取得件数
2020年 特許出願件数2020年 特許取得件数
2019年 特許出願件数2019年 特許取得件数
2018年 特許出願件数2018年 特許取得件数
2017年 特許出願件数2017年 特許取得件数
2016年 特許出願件数2016年 特許取得件数
2015年 特許出願件数2015年 特許取得件数
2014年 特許出願件数2014年 特許取得件数
2013年 特許出願件数2013年 特許取得件数
2012年 特許出願件数2012年 特許取得件数
出願人を検索

来週の知財セミナー (2月3日~2月9日)

2月4日(火) - 東京 港区

特許情報検索入門

2月5日(水) - 東京 港区

はじめての特許分析Ⅰ

2月6日(木) - 東京 港区

はじめての特許分析Ⅱ

特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介

オネスト国際特許事務所

東京都新宿区西新宿8-1-9 シンコービル 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング 

康信国際特許事務所(北京康信知識産権代理有限責任公司)

Floor 16, Tower A, InDo Building, A48 Zhichun Road, Haidian District, Beijing 100098, P.R. China 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング 

金原商標登録事務所

〒152-0034 東京都目黒区緑が丘一丁目16番7号 意匠 商標 外国商標 訴訟 コンサルティング