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エス．オー．アイ．テック、シリコン、オン、インシュレター、テクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第2484位 8件
（
2010年：第2670位 8件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第1455位 16件
（2010年：第2005位 9件）
（ランキング更新日：2025年8月8日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エス．オー．アイ．テック、シリコン、オン、インシュレター、テクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4619949 | ウェハの表面粗さを改善する方法 | 2011年 1月26日 |
16 件中 16-16 件を表示
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