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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第23位 1776件
(2010年:第20位 2330件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第36位 814件
(2010年:第37位 656件)
(ランキング更新日:2025年2月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4826146 | 露光装置、デバイス製造方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4826585 | 共焦点顕微鏡装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4826028 | 電子カメラ | 2011年11月30日 | |
特許 4826695 | 反射屈折光学系および該光学系を備えた投影露光装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4826124 | 位置測定装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4826507 | 焦点検出装置および撮像装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4826586 | スペクトル画像処理方法、コンピュータ実行可能なスペクトル画像処理プログラム、スペクトルイメージングシステム | 2011年11月30日 | |
特許 4826152 | 画像合成方法及び撮像装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4826013 | 研磨装置、半導体ウェハの研磨方法、半導体デバイスの製造方法及び製造装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4821889 | 画像表示装置及び撮像装置 | 2011年11月24日 | |
特許 4821058 | テッサー型レンズ | 2011年11月24日 | |
特許 4821674 | 焦点検出装置および撮像装置 | 2011年11月24日 | |
特許 4821153 | レンズフード | 2011年11月24日 | |
特許 4821057 | 軸外し反射光学系 | 2011年11月24日 | |
特許 4822417 | 露光装置および露光方法 | 2011年11月24日 |
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4826146 4826585 4826028 4826695 4826124 4826507 4826586 4826152 4826013 4821889 4821058 4821674 4821153 4821057 4822417
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2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~