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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第216位 227件
(2012年:第238位 183件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第243位 163件
(2012年:第212位 188件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2013-520801 | 高効率/高精度ヒータドライバ | 2013年 6月 6日 | |
特表 2013-520842 | 堆積プロセスのための方法および装置 | 2013年 6月 6日 | |
特表 2013-519791 | 耐アーク放電ゼロフィールドプレート | 2013年 5月30日 | |
特表 2013-519790 | 半導体処理のためのコーティング材料を備えたガス分配シャワーヘッド | 2013年 5月30日 | |
特表 2013-519192 | プラズマ処理装置のフィードフォワード温度制御 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-102251 | カセットを位置合わせするための方法と装置 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-102226 | 研磨装置において基板を監視する方法及び研磨システムで基板を搬送する方法 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-102174 | 優勢エッチング抵抗性を具備する低K誘電バリアを得る方法 | 2013年 5月23日 | |
特表 2013-519187 | 高エネルギーLiイオンバッテリ用の段階的な電極技術 | 2013年 5月23日 | |
特表 2013-518440 | 高感度実時間形状制御渦電流モニタシステム | 2013年 5月20日 | |
特表 2013-518410 | 基板冷却を備えた搬送ロボット | 2013年 5月20日 | |
特開 2013-93597 | 基板を処理するクラスタツールアーキテクチャ | 2013年 5月16日 | 共同出願 |
特表 2013-517616 | 酸化物ライナを使用する流動可能な誘電体 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-93600 | パターン化されたウエハの裏側急速加熱処理 | 2013年 5月16日 | |
特表 2013-516763 | フレキシブルな窒素/水素比を使用して生成されるラジカルを用いる誘電体膜成長 | 2013年 5月13日 |
227 件中 151-165 件を表示
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2013-520801 2013-520842 2013-519791 2013-519790 2013-519192 2013-102251 2013-102226 2013-102174 2013-519187 2013-518440 2013-518410 2013-93597 2013-517616 2013-93600 2013-516763
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7月17日(木) -
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7月18日(金) -
7月15日(火) - 東京 品川区
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7月23日(水) -
7月23日(水) -
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7月24日(木) -
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7月25日(金) - 大阪 大阪市
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【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
7月25日(金) -
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