特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライドマテリアルズインコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第216位　227件（2012年：第238位　183件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第243位　163件（2012年：第212位　188件）

（ランキング更新日：2025年7月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2013-516763	フレキシブルな窒素／水素比を使用して生成されるラジカルを用いる誘電体膜成長	2013年 5月13日
特表 2013-516788	ラジカル成分ＣＶＤ用のインサイチュオゾン硬化	2013年 5月13日
特開 2013-84602	対称プラズマ処理チャンバ	2013年 5月 9日
特表 2013-516069	シリコン含有膜の平滑ＳｉＣｏｎｉエッチング	2013年 5月 9日
特表 2013-515376	連続プラズマを用いるＰＥＣＶＤ（プラズマ化学気相堆積）マルチステップ処理	2013年 5月 2日
特表 2013-515355	流動性ＣＶＤ処理から形成された誘電体材料上で実行される湿式酸化処理	2013年 5月 2日
特開 2013-80940	基板洗浄チャンバ及び構成部品	2013年 5月 2日
特表 2013-514669	広範囲ウエハ温度制御のための多機能ヒータ／冷却装置ペデスタル	2013年 4月25日
特表 2013-514673	ＮＭＯＳエピ層の形成方法	2013年 4月25日
特開 2013-70068	エピタキシャル膜形成のためのクラスターツール	2013年 4月18日
特開 2013-70055	シリコンと炭素を含有するインサイチュリンドープエピタキシャル層の形成	2013年 4月18日
特表 2013-513239	基板処理シャワーヘッド用の再構成可能なマルチゾーンガス供給ハードウェア	2013年 4月18日
特表 2013-513235	非炭素ラジカル成分ＣＶＤ膜向けの酸素ドーピング	2013年 4月18日
特表 2013-513238	高移動度のモノリシックｐｉｎダイオード	2013年 4月18日
特開 2013-64200	基板処理システムにおける材料蒸着方法及び装置	2013年 4月11日

227 件中 166-180 件を表示

... 12

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-516763 2013-516788 2013-84602 2013-516069 2013-515376 2013-515355 2013-80940 2013-514669 2013-514673 2013-70068 2013-70055 2013-513239 2013-513235 2013-513238 2013-64200

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数