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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第216位 227件
(2012年:第238位 183件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第243位 163件
(2012年:第212位 188件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-65885 | トレンチ内に誘電層を形成する方法 | 2013年 4月11日 | |
特開 2013-64200 | 基板処理システムにおける材料蒸着方法及び装置 | 2013年 4月11日 | |
特表 2013-512572 | 半導体用途のための結晶化処理 | 2013年 4月11日 | |
特表 2013-511847 | アーク放電を低減させた静電チャック | 2013年 4月 4日 | |
特表 2013-511848 | 放射加熱された基板のクールダウンを向上させるための装置および方法 | 2013年 4月 4日 | |
特表 2013-511812 | プラズマ源デザイン | 2013年 4月 4日 | |
特開 2013-58762 | 化学機械研磨のための現場終点検出及びプロセス監視の方法並びに装置 | 2013年 3月28日 | |
特開 2013-56416 | 整形面をもつリテーニングリング | 2013年 3月28日 | |
特開 2013-57660 | 独立光源を用いたウェハ温度測定のための方法及び装置 | 2013年 3月28日 | |
特開 2013-58799 | プラズマ処理による酸化物又は他の還元可能な汚染物質の基板からの除去 | 2013年 3月28日 | |
特表 2013-511150 | 無炭素流動性化学気相堆積膜の硬化 | 2013年 3月28日 | |
特表 2013-510430 | スペクトルの等高線図のピーク位置と時間の関係を使用する終点方法 | 2013年 3月21日 | |
特開 2013-48259 | 化学機械的研磨のスペクトルに基づく監視のための装置および方法 | 2013年 3月 7日 | |
特開 2013-48127 | アッシュ後の側壁の回復 | 2013年 3月 7日 | |
特表 2013-509002 | シャドーマスクアラインメント及び管理システム | 2013年 3月 7日 |
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2013-65885 2013-64200 2013-512572 2013-511847 2013-511848 2013-511812 2013-58762 2013-56416 2013-57660 2013-58799 2013-511150 2013-510430 2013-48259 2013-48127 2013-509002
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7月18日(金) -
7月15日(火) - 東京 品川区
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7月23日(水) -
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【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
7月25日(金) -
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