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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第216位 227件
(2012年:第238位 183件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第243位 163件
(2012年:第212位 188件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2013-509002 | シャドーマスクアラインメント及び管理システム | 2013年 3月 7日 | |
特表 2013-508969 | ブラシコンディショニングおよびパッドコンディショニングのための装置および方法 | 2013年 3月 7日 | |
特表 2013-507782 | 半導体デバイスを製造する方法および設備と半導体デバイス | 2013年 3月 4日 | |
特表 2013-507775 | 基板の加熱および冷却の制御改善のための装置および方法 | 2013年 3月 4日 | |
特表 2013-506997 | 洗浄モジュール内のブラシ洗浄デバイス用ローラアセンブリ | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-40410 | 化学気相堆積のための装置及び方法 | 2013年 2月28日 | |
特表 2013-507004 | クロスフローを有するエピタキシャルチャンバ | 2013年 2月28日 | |
特表 2013-506756 | 基板をコーティングするための方法およびコータ | 2013年 2月28日 | |
特表 2013-507003 | 平坦化後の高密度化 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-38419 | プラズマ誘発損傷を減少させる方法 | 2013年 2月21日 | |
特表 2013-506293 | アモルファスカーボン−金属間接着を向上させるためのグルー層の表面安定化処理 | 2013年 2月21日 | |
特開 2013-36506 | 連通部開閉装置 | 2013年 2月21日 | |
特表 2013-506294 | ソース・ドレイン金属エッチングのためのウェットプロセスを用いた金属酸化物又は金属酸窒化物TFTの製造方法 | 2013年 2月21日 | |
特表 2013-506292 | 誘導結合プラズマリアクタ内での高効率ガス解離のための方法及び装置 | 2013年 2月21日 | |
特表 2013-505578 | パルストレインアニール法を使用する薄膜の固相再結晶化の方法 | 2013年 2月14日 |
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2013-509002 2013-508969 2013-507782 2013-507775 2013-506997 2013-40410 2013-507004 2013-506756 2013-507003 2013-38419 2013-506293 2013-36506 2013-506294 2013-506292 2013-505578
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7月17日(木) -
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7月18日(金) -
7月15日(火) - 東京 品川区
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
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7月25日(金) -
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7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
7月25日(金) -
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