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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第216位 227件
(2012年:第238位 183件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第243位 163件
(2012年:第212位 188件)
(ランキング更新日:2025年7月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2013-505564 | モジュール式基板処理システムおよびモジュール基板処理方法 | 2013年 2月14日 | |
特表 2013-505557 | 薄膜バッテリ製造の方法及びそのための設備 | 2013年 2月14日 | |
特表 2013-505556 | 複雑性低減のための薄膜バッテリ方法 | 2013年 2月14日 | |
特開 2013-30787 | デカルトロボットクラスタツール構築 | 2013年 2月 7日 | |
特表 2013-503757 | 電子デバイスを印刷する印刷方法及びそれに関連する制御装置 | 2013年 2月 4日 | |
特表 2013-504162 | 電池用途のための多孔性アモルファスシリコン−カーボンナノチューブ複合物ベース電極 | 2013年 2月 4日 | |
特表 2013-504050 | 試験装置および関連方法 | 2013年 2月 4日 | |
特表 2013-504193 | 基板の位置合わせを検出する方法および装置 | 2013年 2月 4日 | |
特表 2013-504159 | 傾斜可能なオーバーヘッドRF誘導源を備えたプラズマリアクタ | 2013年 2月 4日 | |
特表 2013-504194 | 印刷トラックをセンタリングするための方法 | 2013年 2月 4日 | |
特表 2013-503490 | ガス分配シャワーヘッドおよび洗浄方法 | 2013年 1月31日 | |
特表 2013-503482 | 炭素含有膜のシリコン選択的ドライエッチング | 2013年 1月31日 | |
特開 2013-12752 | 半導体基板を処理する方法 | 2013年 1月17日 | |
特表 2013-502052 | 二重温度ヒータ | 2013年 1月17日 | |
特表 2013-501855 | RF物理気相堆積用のプロセスキット | 2013年 1月17日 |
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2013-505564 2013-505557 2013-505556 2013-30787 2013-503757 2013-504162 2013-504050 2013-504193 2013-504159 2013-504194 2013-503490 2013-503482 2013-12752 2013-502052 2013-501855
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7月17日(木) -
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7月18日(金) -
7月15日(火) - 東京 品川区
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
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7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
7月25日(金) -
7月25日(金) -