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アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-243375	基板上に酸化ケイ素層を形成する方法	2013年12月 5日
特開 2013-243384	炭素質ハードマスクによる二重露光パターニング	2013年12月 5日
特表 2013-543659	薄膜トランジスタ用途に用いられる砒化ガリウムに基づく材料	2013年12月 5日
特開 2013-243377	高速基板サポート温度制御	2013年12月 5日
特開 2013-243368	微小構造欠陥の検出	2013年12月 5日
特表 2013-543269	対称給電構造を有する基板サポート	2013年11月28日
特表 2013-543281	複合的な除去可能ハードマスク	2013年11月28日
特開 2013-239752	ボイドフリーギャップ充填に対する誘電体膜品質を向上させる方法及びシステム	2013年11月28日
特開 2013-239727	動的に調整可能なプラズマ源出力印加器を備えたプラズマリアクタ	2013年11月28日
特表 2013-542612	高純度アルミニウムコーティングの硬質陽極酸化処理	2013年11月21日
特表 2013-542613	フォトレジスト線幅の荒れを制御するための方法及び装置	2013年11月21日
特表 2013-542583	可変抵抗記憶要素および製造方法	2013年11月21日
特表 2013-542555	インライン処理システム用の噴霧堆積モジュール	2013年11月21日
特開 2013-232660	スペクトルを使用した研磨終了点の決定	2013年11月14日
特表 2013-541827	終点検出のための２次元のスペクトル特徴の追跡	2013年11月14日

227 件中 16-30 件を表示

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2013-243375 2013-243384 2013-543659 2013-243377 2013-243368 2013-543269 2013-543281 2013-239752 2013-239727 2013-542612 2013-542613 2013-542583 2013-542555 2013-232660 2013-541827

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