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アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2014-194937	プラズマ処理装置内のＲＦ駆動型電極へのガス配送用のＲＦチョーク	2014年10月 9日
特開 2014-194564	自己マスク層を有するフォトマスクとそのエッチング方法	2014年10月 9日
特表 2014-527286	モデルベースの制御を使用して基板を処理するための方法および装置	2014年10月 9日
特表 2014-527315	半導体集積のための反応しないドライ除去プロセス	2014年10月 9日
特表 2014-527300	選択的窒化プロセスのための方法および装置	2014年10月 9日
特表 2014-526768	マスクレス電解質堆積による薄膜バッテリ製造	2014年10月 6日
特表 2014-526146	プラズマエッチングを伴うハイブリッド分割ビームレーザスクライビングプロセスを用いたウェハダイシング	2014年10月 2日
特表 2014-526113	プラズマチャンバのための伝送線ＲＦアプリケータ	2014年10月 2日
特表 2014-525516	物理気相堆積チャンバターゲット用の冷却リング	2014年 9月29日
特表 2014-525141	新規の熱処理装置	2014年 9月25日
特表 2014-525143	薄膜トランジスタデバイスの製造方法	2014年 9月25日
特開 2014-179466	エピタキシャル成長による成膜方法、および、エピタキシャル成長装置	2014年 9月25日
特開 2014-179581	エピタキシャル成長による成膜方法、および、エピタキシャル成長装置	2014年 9月25日
特表 2014-524974	ピンホールフリー誘電体薄膜製造	2014年 9月25日
特開 2014-179632	高スループット低形状銅ＣＭＰ処理	2014年 9月25日

169 件中 31-45 件を表示

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2014-194937 2014-194564 2014-527286 2014-527315 2014-527300 2014-526768 2014-526146 2014-526113 2014-525516 2014-525141 2014-525143 2014-179466 2014-179581 2014-524974 2014-179632

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