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アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2013-536580	研磨中の温度制御のための装置および方法	2013年 9月19日
特表 2013-535842	静電チャック及びその使用方法	2013年 9月12日
特表 2013-535578	抵抗率と不均一性が減少された薄膜を形成する物理蒸着処理のためのマグネット	2013年 9月12日
特表 2013-535577	高アスペクト比の特徴要素に金属を堆積する方法	2013年 9月12日
特開 2013-179309	超高スループット・ウェハ真空処理システム	2013年 9月 9日
特表 2013-535114	フェムト秒レーザ及びプラズマエッチングを用いたウェハダイシング	2013年 9月 9日
特表 2013-535097	基板処理システムで使用するための窓アセンブリ	2013年 9月 9日
特開 2013-179054	対称プラズマ処理チャンバ	2013年 9月 9日
特開 2013-179055	対称プラズマ処理チャンバ	2013年 9月 9日
特表 2013-535099	ゾーン依存熱効率性を備えた温度制御されたプラズマ処理チャンバ部品	2013年 9月 9日
特表 2013-534695	パルス状の熱伝導流体の流れを用いたプラズマ処理装置における温度制御	2013年 9月 5日
特開 2013-174597	電子装置製造システムにおけるガスの現場分析のための方法及び装置	2013年 9月 5日
特表 2013-534568	ターゲットバッキングチューブ用の磁石構成体、磁石構成体を含むターゲットバッキングチューブ、円筒形ターゲットアセンブリ、およびスパッタリングシステム	2013年 9月 5日
特開 2013-175745	エピタキシャル堆積プロセス及び装置	2013年 9月 5日
特開 2013-175730	改良されたチャンバ洗浄方法及び装置	2013年 9月 5日

227 件中 61-75 件を表示

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2013-536580 2013-535842 2013-535578 2013-535577 2013-179309 2013-535114 2013-535097 2013-179054 2013-179055 2013-535099 2013-534695 2013-174597 2013-534568 2013-175745 2013-175730

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