特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライドマテリアルズインコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第216位　227件（2012年：第238位　183件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第243位　163件（2012年：第212位　188件）

（ランキング更新日：2025年7月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2013-534695	パルス状の熱伝導流体の流れを用いたプラズマ処理装置における温度制御	2013年 9月 5日
特表 2013-534046	ＢＤＥＡＳにより堆積された二酸化ケイ素層	2013年 8月29日
特表 2013-533614	銅ウエハ研磨の化学的平坦化	2013年 8月22日
特表 2013-533575	Ｂフィールド集中装置を使用する金属シャワーヘッドを備える誘導性プラズマ源	2013年 8月22日
特表 2013-533640	処理チャンバ内のガスの流れを制御するための装置	2013年 8月22日
特表 2013-533639	流動性ＣＶＤによる間隙充填用の酸化物を多く含むライナ層	2013年 8月22日
特表 2013-533376	リソグラフィマスクの用途のためのホウ素リッチ膜のエンジニアリング	2013年 8月22日
特表 2013-533388	改善されたガス流のためのシャワーヘッド支持構造	2013年 8月22日
特表 2013-533373	エンドブロックおよびスパッタリング装置	2013年 8月22日
特表 2013-532588	保持リングの厚さおよび寿命の実時間モニタリング	2013年 8月19日
特表 2013-532912	基板上の複数のゾーンを監視するための基準ライブラリの選択	2013年 8月19日
特表 2013-532387	イオン電流を低減したプレクリーンチャンバ	2013年 8月15日
特表 2013-532231	タッチパネルで使用される透明体を製造するための方法およびシステム	2013年 8月15日
特表 2013-532386	結晶ゲルマニウムのプラズマ化学気相堆積	2013年 8月15日
特表 2013-531396	化学機械研磨中に基板エッジの応力を低減するための基板ホルダ	2013年 8月 1日

227 件中 76-90 件を表示

... 6

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-534695 2013-534046 2013-533614 2013-533575 2013-533640 2013-533639 2013-533376 2013-533388 2013-533373 2013-532588 2013-532912 2013-532387 2013-532231 2013-532386 2013-531396

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数