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日産化学工業株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第406位 95件 下降2010年:第403位 108件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第423位 78件 下降2010年:第384位 76件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
再表 2009-75291 光学活性ジニッケル錯体及びそれを触媒とする光学活性アミンの製造方法 2011年 4月28日
再表 2009-75265 レジスト下層膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法 2011年 4月28日
再表 2009-72621 置換ジヒドロアゾール化合物及び有害生物防除剤 2011年 4月28日
特開 2011-79850 アクリロニトリル化合物の製造方法 2011年 4月21日
特開 2011-82236 半導体基板の平坦化方法 2011年 4月21日
再表 2009-69557 3次元パターン形成材料 2011年 4月14日
再表 2009-69712 ブロック化イソシアネート基を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 2011年 4月14日
再表 2009-69429 シリカ含有エポキシ硬化剤及びエポキシ樹脂硬化体 2011年 4月 7日
再表 2009-66735 2−アザアダマンタン類の製造方法 2011年 4月 7日 共同出願
特開 2011-68565 経時的に安定な組成物 2011年 4月 7日
再表 2009-63910 光学活性イソキサゾリン化合物の触媒的不斉合成方法 2011年 3月31日
特開 2011-57617 ジカルボン酸化合物及びそれを含有した熱硬化性樹脂組成物 2011年 3月24日
特開 2011-60373 ハードディスク用被膜形成組成物 2011年 3月24日
特開 2011-57620 脂質ヒスチジンゲル化剤 2011年 3月24日
特開 2011-51940 イソチオシアナト化合物の製造方法 2011年 3月17日

95 件中 61-75 件を表示

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2009-75291 2009-75265 2009-72621 2011-79850 2011-82236 2009-69557 2009-69712 2009-69429 2009-66735 2011-68565 2009-63910 2011-57617 2011-60373 2011-57620 2011-51940

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