ホーム > 特許ランキング > ルネサスエレクトロニクス株式会社 > 2012年 > 特許一覧
ルネサスエレクトロニクス株式会社
※ ログインすれば出願人(ルネサスエレクトロニクス株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第29位 1347件
（
2011年：第22位 1823件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第28位 1067件
（2011年：第26位 1109件）
（ランキング更新日：2025年5月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
ルネサスエレクトロニクス株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5106513 | 薄膜磁性体記憶装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107959 | 基板 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5106747 | パターン形成方法、半導体装置の製造方法及び露光用マスクセット | 2012年12月26日 | |
| 特許 5106942 | メモリリード制御回路 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107541 | 絶縁膜形成方法および半導体装置の製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5110783 | 半導体装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107627 | 半導体ウェーハ、および、それを用いた半導体装置の製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5111191 | データ処理装置、画像符号化復号装置、データ処理システム及び画像処理装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107839 | 半導体装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107128 | 半導体装置の製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5111057 | 制御装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5108690 | ＤＭＡ装置及びＤＭＡ転送方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107532 | シミュレーション方法およびシミュレーションシステム、ならびにマスクパターンの修正方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5108408 | 半導体装置及びその製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107080 | 半導体装置 | 2012年12月26日 |
1067 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5106513 5107959 5106747 5106942 5107541 5110783 5107627 5111191 5107839 5107128 5111057 5108690 5107532 5108408 5107080
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ルネサスエレクトロニクス株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
5月28日(水) - 東京 港区
5月28日(水) - 東京 千代田区
5月28日(水) - 東京 中央区
5月28日(水) -
5月28日(水) -
5月29日(木) - 東京 港区
5月29日(木) - 東京 品川区
5月29日(木) - 東京 新宿区
5月29日(木) -
5月29日(木) -
5月30日(金) -
5月30日(金) -
5月28日(水) - 東京 港区
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒445-0802 愛知県西尾市米津町蓮台６－１０ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
Floor 16, Tower A, InDo Building, A48 Zhichun Road, Haidian District, Beijing 100098, P.R. China 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒500-8368 岐阜県 岐阜市 宇佐3丁目4番3号 4-3,Usa 3-Chome, Gifu-City, 500-8368 JAPAN 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
