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ルネサスエレクトロニクス株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第29位 1347件
（
2011年：第22位 1823件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第28位 1067件
（2011年：第26位 1109件）
（ランキング更新日：2024年12月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ルネサスエレクトロニクス株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5016244 | 半導体記憶装置 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5016538 | Ａ／Ｄ変換装置及び方法 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5016556 | シーン変化検出装置、符号化装置及びシーン変化検出方法 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5017126 | システム | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5019370 | 基板の洗浄方法および洗浄装置 | 2012年 9月 5日 | 共同出願 |
| 特許 5017228 | 半導体装置 | 2012年 9月 5日 | 共同出願 |
| 特許 5013387 | 集積回路装置の識別方法、集積回路装置の製造方法、集積回路装置、半導体チップ及び実装体 | 2012年 8月29日 | 共同出願 |
| 特許 5011184 | 時間帯予約型ネットワークシステム、フレーム転送方法及びネットワーク装置 | 2012年 8月29日 | 共同出願 |
| 特許 5015496 | 固体撮像装置、撮像方法および撮像システム | 2012年 8月29日 | |
| 特許 5015655 | 液体材料供給装置およびこれを用いた液体材料供給方法 | 2012年 8月29日 | |
| 特許 5015696 | 半導体装置の製造方法及び製造装置 | 2012年 8月29日 | |
| 特許 5015705 | 層間絶縁膜形成方法、層間絶縁膜、半導体デバイス、および半導体製造装置 | 2012年 8月29日 | |
| 特許 5015829 | 設備負荷率算出システム、プログラム、及び方法 | 2012年 8月29日 | |
| 特許 5013768 | インターフェイス回路 | 2012年 8月29日 | |
| 特許 5013450 | 半導体集積回路及びシングルチップマイクロコンピュータ | 2012年 8月29日 |
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5016244 5016538 5016556 5017126 5019370 5017228 5013387 5011184 5015496 5015655 5015696 5015705 5015829 5013768 5013450
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ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ～秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約～
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