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株式会社半導体エネルギー研究所
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第31位 1093件
（
2013年：第34位 1161件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第32位 1102件
（2013年：第34位 975件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社半導体エネルギー研究所の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5486828 | 半導体基板の作製方法 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5486781 | 半導体装置の作製方法 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5486779 | 半導体基板の製造方法 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5486766 | 記憶素子及びその作製方法 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5486671 | 半導体装置 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5485858 | 半導体装置 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5483752 | 発光素子、発光装置、及び照明装置 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5483659 | 半導体装置 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5486778 | 半導体装置 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5479759 | ベンゾオキサゾール誘導体、発光素子用材料、発光素子、発光装置及び電子機器 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5476012 | アセナフトキノキサリン誘導体、発光素子、発光装置および電子機器 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5480554 | 半導体装置 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5478380 | プラズマ成膜装置 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5480174 | 半導体装置 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5478916 | ＳＯＩ基板の作製方法 | 2014年 4月23日 |
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5486828 5486781 5486779 5486766 5486671 5485858 5483752 5483659 5486778 5479759 5476012 5480554 5478380 5480174 5478916
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＜エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け＞ 基礎から学ぶ／自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
2月14日(金) - 東京 千代田区
