特許ランキング - 出願人詳細情報 -

日揮触媒化成株式会社

※ ログインすれば出願人(日揮触媒化成株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第664位　50件（2010年：第701位　53件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第622位　49件（2010年：第698位　35件）

（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

日揮触媒化成株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2011-93754	五酸化アンチモン系複合酸化物微粒子、該微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材	2011年 5月12日
特開 2011-88044	炭化水素油の水素化脱硫触媒	2011年 5月 6日	共同出願
特開 2011-83751	オキシクロリネーション用触媒の製造方法	2011年 4月28日
特開 2011-73332	インク受容層形成用塗布液およびインク受容層付記録用シート	2011年 4月14日
特開 2011-72933	炭化水素の水素化触媒及び炭化水素の水素化触媒の製造方法	2011年 4月14日
特開 2011-68087	ハードコート膜付基材およびハードコート膜形成用塗布液	2011年 4月 7日
特開 2011-63478	リン含有五酸化アンチモン微粒子および該微粒子を含む透明導電性被膜形成用塗布液ならびに透明導電性被膜付基材	2011年 3月31日
特開 2011-57856	改質シクロデキストリン粒子分散液及びその製造方法	2011年 3月24日
特開 2011-59692	液晶表示セル	2011年 3月24日
特開 2011-57988	インクジェット記録用インクおよび印刷基材	2011年 3月24日
特開 2011-51972	有機無機複合粒子並びにその製造方法、該粒子を含む分散液および該粒子を配合した化粧料	2011年 3月17日
特開 2011-46606	シリカ系微粒子、被膜形成用塗料および被膜付基材	2011年 3月10日
特開 2011-42546	カチオン化シリカゾルの製造方法	2011年 3月 3日
特開 2011-37659	コアシェル型複合酸化物微粒子の分散液および該分散液の製造方法、該コアシェル型複合酸化物微粒子を含む塗料組成物、硬化性塗膜および硬化性塗膜付き基材	2011年 2月24日
特開 2011-32126	硫酸銅水溶液の製造方法	2011年 2月17日

50 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-93754 2011-88044 2011-83751 2011-73332 2011-72933 2011-68087 2011-63478 2011-57856 2011-59692 2011-57988 2011-51972 2011-46606 2011-42546 2011-37659 2011-32126

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日揮触媒化成株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数