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ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第11848位 1件
（
2013年：第3781位 5件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1030位 27件
（
2013年：第1233位 21件）
（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5487501 | 反射防止膜組成物 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5458306 | シリコーンコーティング組成物 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5453615 | フォトレジスト用反射防止膜組成物 | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5450617 | 薬液供給システムおよびそれに用いる薬液用容器 | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5425514 | 微細パターン形成方法 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5418906 | 反射防止コーティング組成物 | 2014年 2月19日 | |
| 特許 5412690 | 厚膜レジスト | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5405031 | シリカ質膜の製造に用いる浸漬用溶液およびそれを用いたシリカ質膜の製造法 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5405437 | アイソレーション構造の形成方法 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5410207 | シリカ質膜製造方法およびそれに用いるポリシラザン塗膜処理液 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5391462 | 光結像性ポジ型底面反射防止膜 | 2014年 1月15日 | |
| 特許 5382370 | フォトレジストパターン上にコーティングするためのラクタム含有組成物 | 2014年 1月 8日 |
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5487501 5458306 5453615 5450617 5425514 5418906 5412690 5405031 5405437 5410207 5391462 5382370
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