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ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第11848位 1件
（
2013年：第3781位 5件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1030位 27件
（
2013年：第1233位 21件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5613950 | フォトレジスト用の反射防止膜組成物 | 2014年10月29日 | |
| 特許 5610521 | シロキサン樹脂組成物の硬化被膜形成方法 | 2014年10月22日 | |
| 特許 5604734 | ポジ型光像形成性底面反射防止コーティング | 2014年10月15日 | |
| 特許 5591640 | 液体用コンテナとその組み立て方法 | 2014年 9月17日 | |
| 特許 5589192 | コーティング組成物 | 2014年 9月17日 | |
| 特許 5591623 | リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法 | 2014年 9月17日 | |
| 特許 5591665 | スルホン化フェニル基を含むシルセスキアザンポリマーおよびそれを用いて製造したシリカ質膜 | 2014年 9月17日 | |
| 特許 5568791 | 反射防止コーティング組成物 | 2014年 8月13日 | |
| 特許 5548940 | 光活性化合物 | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5535583 | トレンチ・アイソレーション構造の形成方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5531353 | ポリシラザンを用いたリバーストーン画像の形成のためのハードマスク方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5521253 | フォトレジストパターン上にコーティングするための水性組成物 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5512091 | 高精細印刷用インキ組成物およびそれを用いた高精細パターンの形成方法 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5507039 | 高精細印刷用光硬化性インキ組成物、およびそれを用いた電子部品の製造法 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5499386 | 底面反射防止膜用コーティング組成物 | 2014年 5月21日 |
27 件中 1-15 件を表示
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5613950 5610521 5604734 5591640 5589192 5591623 5591665 5568791 5548940 5535583 5531353 5521253 5512091 5507039 5499386
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