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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第10位 3347件
(2010年:第12位 3683件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第15位 2130件
(2010年:第15位 1727件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4697588 | レンズ鏡胴 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4697587 | レンズ鏡胴 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4694929 | 重合性組成物、位相差板、高分子膜の作製方法、液晶表示装置 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4694848 | 液晶表示装置 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4694157 | 遮光画像付き基板及び遮光画像の製造方法、転写材料、カラーフィルター、並びに表示装置 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4698470 | 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4698357 | 光記録用組成物及びこれを用いた光記録媒体 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4697604 | 撮影装置および撮影制御方法 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4697549 | 撮影装置及びその顔検出方法 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4697461 | 撮像装置 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4696010 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4696009 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4696001 | ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4695996 | 感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 | 2011年 6月 8日 | |
特許 4695941 | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | 2011年 6月 8日 |
2130 件中 1336-1350 件を表示
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4697588 4697587 4694929 4694848 4694157 4698470 4698357 4697604 4697549 4697461 4696010 4696009 4696001 4695996 4695941
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2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月12日(水) -
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
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