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ＤＯＷＡエレクトロニクス株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第557位 58件
（
2013年：第769位 42件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第486位 73件
（
2013年：第416位 86件）
（ランキング更新日：2024年11月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＤＯＷＡエレクトロニクス株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5645728 | フェライト粒子並びにそれを用いた電子写真用キャリア及び電子写真用現像剤 | 2014年12月24日 | 共同出願 |
| 特許 5635784 | フェライト粒子及びその製造方法、並びにフェライト粒子を用いた電子写真現像用キャリア、電子写真用現像剤 | 2014年12月 3日 | 共同出願 |
| 特許 5635351 | 再生キャリアの製造方法、再生キャリア、再生キャリアのキャリア芯材、電子写真現像剤、および電子写真現像剤の製造方法 | 2014年12月 3日 | 共同出願 |
| 特許 5633045 | 銀粉およびその製造方法 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5632852 | 低温焼結性銀ナノ粒子組成物および該組成物を用いて形成された電子物品 | 2014年11月26日 | 共同出願 |
| 特許 5627072 | 電子写真現像剤用キャリア芯材およびその製造方法、電子写真現像剤用キャリア、並びに電子写真現像剤 | 2014年11月19日 | 共同出願 |
| 特許 5622454 | ウェハの薄厚化加工方法および半導体デバイスの製造方法 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5622499 | 電子デバイス用エピタキシャル基板およびその製造方法 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5620699 | フェライト粒子及びそれを用いた電子写真現像用キャリア、電子写真用現像剤並びにフェライト粒子の製造方法 | 2014年11月 5日 | 共同出願 |
| 特許 5610700 | 錫含有酸化インジウムの製造方法、透明導電材用塗料の製造方法、および、透明導電膜の製造方法 | 2014年10月22日 | |
| 特許 5608335 | 電子写真現像剤用キャリア芯材とその製造方法、及びキャリア、並びに電子写真用現像剤 | 2014年10月15日 | 共同出願 |
| 特許 5602052 | 電池正極材料及び電池正極材料の製造方法 | 2014年10月 8日 | |
| 特許 5597487 | 再生キャリアの製造方法 | 2014年10月 1日 | 共同出願 |
| 特許 5590766 | 金属膜形成塗料の製造方法 | 2014年 9月17日 | |
| 特許 5589214 | ＩＴＯ粉体およびその製造方法、透明導電材用塗料、並びに透明導電膜 | 2014年 9月17日 |
73 件中 1-15 件を表示
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5645728 5635784 5635351 5633045 5632852 5627072 5622454 5622499 5620699 5610700 5608335 5602052 5597487 5590766 5589214
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