ホーム > 特許ランキング > DOWAエレクトロニクス株式会社 > 2014年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(DOWAエレクトロニクス株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2014年 出願公開件数ランキング 第557位 58件 (2013年:第769位 42件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第486位 73件 (2013年:第416位 86件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5588296 | エピタキシャル成長方法及びエピタキシャルウェハ | 2014年 9月10日 | |
特許 5578777 | ボンド磁石用フェライト粉末およびその製造方法、並びに、これを用いたボンド磁石 | 2014年 8月27日 | 共同出願 |
特許 5578842 | フェライト粒子の製造方法 | 2014年 8月27日 | 共同出願 |
特許 5576771 | III族窒化物エピタキシャル積層基板 | 2014年 8月20日 | |
特許 5567396 | 磁気ブラシ帯電用のフェライト粒子及びその製造方法 | 2014年 8月 6日 | 共同出願 |
特許 5560490 | ディーゼルエンジン用ウォールフローハニカム型パティキュレートフィルター | 2014年 7月30日 | |
特許 5564207 | 赤外線遮蔽材料、赤外線遮蔽用塗料、赤外線遮蔽膜、並びに、赤外線遮蔽基材 | 2014年 7月30日 | |
特許 5547570 | 導電性ペースト | 2014年 7月16日 | |
特許 5548234 | 磁性部品とそれに用いられる金属粉末およびその製造方法 | 2014年 7月16日 | |
特許 5546301 | 電子デバイス用エピタキシャル基板およびその製造方法 | 2014年 7月 9日 | |
特許 5541843 | 排ガス浄化触媒用複合酸化物およびそれを用いた排ガス浄化用フィルタ | 2014年 7月 9日 | |
特許 5543866 | III族窒化物エピタキシャル基板 | 2014年 7月 9日 | |
特許 5528040 | 排ガス浄化触媒用複合酸化物とその製造方法および排ガス浄化触媒用塗料とディーゼル排ガス浄化用フィルタ | 2014年 6月25日 | |
特許 5526336 | 半田層及びそれを用いたデバイス接合用基板並びにその製造方法 | 2014年 6月18日 | |
特許 5523153 | 金属粉表面のベンゾトリアゾールの定量方法 | 2014年 6月18日 |
73 件中 16-30 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5588296 5578777 5578842 5576771 5567396 5560490 5564207 5547570 5548234 5546301 5541843 5543866 5528040 5526336 5523153
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。DOWAエレクトロニクス株式会社の知財の動向チェックに便利です。
11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
岐阜県各務原市つつじが丘1丁目111番地 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 コンサルティング
〒453-0012 愛知県名古屋市中村区井深町1番1号 新名古屋センタービル・本陣街2階 243-1号室 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒243-0021 神奈川県厚木市岡田3050 厚木アクストメインタワー3階B-1 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング