ホーム > 特許ランキング > バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト > 2012年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第363位 115件
(2011年:第319位 125件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第926位 32件
(2011年:第903位 30件)
(ランキング更新日:2025年5月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-92101 | ジアルキルカーボネートの連続的製法 | 2012年 5月17日 | |
特表 2012-511060 | 塩基性条件下で沈殿させたエマルショングラフトポリマーを有し、酸性含リン化合物を含有する耐衝撃性改良ポリカーボネート組成物 | 2012年 5月17日 | |
特開 2012-87409 | 酸素消費電極およびその製造方法 | 2012年 5月10日 | |
特表 2012-509968 | 表面硬度が向上したコポリカーボネート | 2012年 4月26日 | |
特開 2012-83347 | ポリマーを特性化するための方法および装置 | 2012年 4月26日 | |
特開 2012-77381 | 輸送および貯蔵安定性酸素消費電極の製造方法 | 2012年 4月19日 | |
特表 2012-508421 | 触覚フィードバック装置のための電場応答性高分子変換器 | 2012年 4月 5日 | |
特表 2012-508556 | 表面変形電気活性ポリマー変換器 | 2012年 4月 5日 | |
特表 2012-507617 | ジオキサン排出量が少ないポリエステルポリオールの製造方法 | 2012年 3月29日 | |
特表 2012-507616 | ジオキサン排出量が少ないポリエステルポリオールの製造方法 | 2012年 3月29日 | |
特表 2012-506925 | ポリウレタン溶液に基づくエネルギー変換器 | 2012年 3月22日 | |
特表 2012-506328 | レーザー彫刻による書き込みを遮断するIDカード | 2012年 3月15日 | |
特表 2012-504777 | 自己現像性ポリマーをベースとする体積ホログラフィックのための媒体 | 2012年 2月23日 | |
特表 2012-504665 | ホログラフィック媒体製造用のプレポリマー系ポリウレタン配合物 | 2012年 2月23日 | |
特表 2012-504562 | 1,4,2−ジアザホスホリジン誘導体 | 2012年 2月23日 |
115 件中 76-90 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2012-92101 2012-511060 2012-87409 2012-509968 2012-83347 2012-77381 2012-508421 2012-508556 2012-507617 2012-507616 2012-506925 2012-506328 2012-504777 2012-504665 2012-504562
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフトの知財の動向チェックに便利です。
5月28日(水) - 東京 港区
5月28日(水) - 東京 千代田区
5月28日(水) - 東京 中央区
5月28日(水) -
5月28日(水) -
5月29日(木) - 東京 港区
5月29日(木) - 東京 品川区
5月29日(木) - 東京 新宿区
5月29日(木) -
5月29日(木) -
5月30日(金) -
5月30日(金) -
5月28日(水) - 東京 港区
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
〒567-0883 大阪府茨木市大手町2番6号 丸吉ビル202号 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒141-0031 東京都品川区西五反田3-6-20 いちご西五反田ビル8F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪市天王寺区上本町六丁目9番10号 青山ビル本館3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング