株式会社昭和真空
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第4080位 4件
（
2010年：第2457位 9件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第1078位 24件
（
2010年：第1210位 18件）
（ランキング更新日：2025年3月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社昭和真空の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
特許
4724866
|
圧電デバイスの周波数調整装置及び方法、並びに圧電デバイス | 2011年 7月13日 | |
| 特許
4725975
|
真空蒸着装置及びその運用方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許
4714920
|
蒸着材料供給装置および方法 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許
4682311
|
真空成膜装置および方法 | 2011年 5月11日 | |
| 特許
4665155
|
薄膜形成装置及びその方法 | 2011年 4月 6日 | |
| 特許
4665160
|
成膜装置に於ける成膜速度測定装置および方法 | 2011年 4月 6日 | |
| 特許
4660241
|
スパッタ装置 | 2011年 3月30日 | |
| 特許
4635132
|
連続式成膜装置および方法 | 2011年 2月16日 | |
| 特許
4617101
|
スパッタ装置 | 2011年 1月19日 |
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4724866 4725975 4714920 4682311 4665155 4665160 4660241 4635132 4617101
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