株式会社昭和真空
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第4080位 4件
（
2010年：第2457位 9件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第1078位 24件
（
2010年：第1210位 18件）
（ランキング更新日：2025年6月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社昭和真空の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4835826 | 液晶配向膜用真空蒸着装置およびその成膜方法 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4822339 | 給電機構を搭載した真空装置および給電方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4817237 | 圧電素子の周波数調整装置、及び周波数調整方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4817236 | 圧電素子の周波数調整装置及びそれを用いた真空槽 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4813292 | 有機薄膜の膜厚測定装置及び有機薄膜形成装置 | 2011年11月 9日 | 共同出願 |
| 特許 4804830 | 多層膜の成膜方法および成膜装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4781337 | 成膜装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4781105 | スパッタリング装置および方法 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4757689 | 成膜装置及び成膜方法 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4755475 | スパッタ装置 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4750619 | マグネトロンカソードとそれを搭載したスパッタ装置 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4737760 | 真空蒸着装置 | 2011年 8月 3日 | |
| 特許 4737746 | 薄膜形成方法及びその装置 | 2011年 8月 3日 | |
| 特許 4735291 | 成膜方法 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4733990 | スパッタ装置 | 2011年 7月27日 |
24 件中 1-15 件を表示
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4835826 4822339 4817237 4817236 4813292 4804830 4781337 4781105 4757689 4755475 4750619 4737760 4737746 4735291 4733990
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