- 2025年2月28日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月28日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
2026位 | 小野谷機工株式会社 小野谷機工株式会社 | 11 | ![]() |
6 | 5(3300位) |
2026位 | 日本製紙ケミカル株式会社 日本製紙ケミカル株式会社 | 11 | ![]() |
10 | 4(3844位) |
2026位 | エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ | 11 | ![]() |
8 | 12(1877位) |
2026位 | 星光PMC株式会社 星光PMC株式会社 | 11 | ![]() |
14 | 21(1281位) |
2026位 | 日本トムソン株式会社 日本トムソン株式会社 | 11 | ![]() |
5 | 13(1784位) |
2026位 | 新光電子株式会社 新光電子株式会社 | 11 | ![]() |
2 | 5(3300位) |
2026位 | NECソフト株式会社 NECソフト株式会社 | 11 | ![]() |
27 | 8(2452位) |
2026位 | イマジネイション テクノロジーズ リミテッド イマジネイション テクノロジーズ リミテッド | 11 | ![]() |
9 | 8(2452位) |
2026位 | セメス株式会社 セメス株式会社 | 11 | ![]() |
8 | 20(1326位) |
2026位 | ホアウェイ・テクノロジーズ・カンパニー・リミテッド ホアウェイ・テクノロジーズ・カンパニー・リミテッド | 11 | ![]() |
5 | 26(1082位) |
2026位 | エルブイエムエイチ レシェルシェ エルブイエムエイチ レシェルシェ | 11 | ![]() |
12 | 2(6156位) |
2026位 | 株式会社アイホー 株式会社アイホー | 11 | ![]() |
6 | 6(2955位) |
2026位 | ノイロサーチ アクティーゼルスカブ ノイロサーチ アクティーゼルスカブ | 11 | ![]() |
21 | 2(6156位) |
2026位 | 株式会社プライムポリマー 株式会社プライムポリマー | 11 | ![]() |
12 | 23(1187位) |
2026位 | キリンビバレッジ株式会社 キリンビバレッジ株式会社 | 11 | ![]() |
11 | 9(2270位) |
2026位 | ユミコア ソシエテ アノニム ユミコア ソシエテ アノニム | 11 | ![]() |
5 | 0(25637位) |
2026位 | トータル・ペトロケミカルズ・リサーチ・フエリユイ トータル・ペトロケミカルズ・リサーチ・フエリユイ | 11 | ![]() |
21 | 26(1082位) |
2026位 | アクゾ ノーベル ナムローゼ フェンノートシャップ アクゾ ノーベル ナムローゼ フェンノートシャップ | 11 | ![]() |
26 | 34(885位) |
2026位 | ユニヴァーシティ オブ ワシントン ユニヴァーシティ オブ ワシントン | 11 | ![]() |
16 | 7(2665位) |
2026位 | 株式会社日阪製作所 株式会社日阪製作所 | 11 | ![]() |
2 | 10(2117位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月28日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
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3月4日(火) - 東京 港区
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