- 2025年2月6日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月6日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11791位 | 鈴木 誠治 鈴木 誠治 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 曽我 峰生 曽我 峰生 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 株式会社バイオレドックス研究所 株式会社バイオレドックス研究所 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 株式会社LIXIL鈴木シャッター 株式会社LIXIL鈴木シャッター | 1 | ![]() |
1 | 3(4646位) |
11791位 | 丸山 透 丸山 透 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 株式会社卑弥呼 株式会社卑弥呼 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 株式会社コマリヨー 株式会社コマリヨー | 1 | ![]() |
2 | 0(25637位) |
11791位 | 尾美樹脂工業有限会社 尾美樹脂工業有限会社 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 新久保 守 新久保 守 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 渡邉 季昭 渡邉 季昭 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 舘向 精志 舘向 精志 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 株式会社堀内電機製作所 株式会社堀内電機製作所 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 有限会社エーアンドイー 有限会社エーアンドイー | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 町田 幸文 町田 幸文 | 1 | ![]() |
1 | 5(3300位) |
11791位 | インターナショナル タバコ マシーネリー ポーランド エスピー. ゼット オー.オー. インターナショナル タバコ マシーネリー ポーランド エスピー. ゼット オー.オー. | 1 | ![]() |
3 | 0(25637位) |
11791位 | 大関 綾 大関 綾 | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | イントゥス エイチシーエヌ コーポレイション リミテッド. イントゥス エイチシーエヌ コーポレイション リミテッド. | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | スタラジン ソシエテ アノニム スタラジン ソシエテ アノニム | 1 | ![]() |
2 | 0(25637位) |
11791位 | コーセラ,インコーポレーテッド コーセラ,インコーポレーテッド | 1 | ![]() |
4 | 0(25637位) |
11791位 | ウェル イー アンド シー カンパニー リミテッド ウェル イー アンド シー カンパニー リミテッド | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月6日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
6156位 | 近畿電機株式会社 | 2 | ![]() |
2 | 3(5164位) |
6156位 | ゼットティーイー コーポレイション | 2 | - | 0 | 63(549位) |
6156位 | エーイーテック株式会社 | 2 | - | 0 | 0(32063位) |
6156位 | ロスマンズ、ベンソン アンド ヘッジズ インコーポレイテッド | 2 | - | 0 | 0(32063位) |
6156位 | 原田 正則 | 2 | ![]() |
2 | 0(32063位) |
6156位 | 株式会社創研 | 2 | ![]() |
2 | 1(11791位) |
6156位 | オル・ジャパン株式会社 | 2 | ![]() |
2 | 0(32063位) |
6156位 | アルカエンジニアリング株式会社 | 2 | - | 0 | 0(32063位) |
6156位 | 株式会社ミズホ | 2 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
6156位 | ルーカス インダストリーズ リミテッド | 2 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
6156位 | 有限会社TKテクノコンサルティング | 2 | - | 0 | 1(11791位) |
6156位 | 藤田 秀雄 | 2 | ![]() |
5 | 0(32063位) |
6156位 | レックスマーク・インターナショナル・インコーポレーテツド | 2 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
6156位 | 株式会社REO研究所 | 2 | ![]() |
2 | 3(5164位) |
6156位 | アルゲッタ エイエス | 2 | ![]() |
1 | 1(11791位) |
6156位 | バイオエナジー インコーポレイティド | 2 | - | 0 | 3(5164位) |
6156位 | アメリカ合衆国政府 | 2 | - | 0 | 0(32063位) |
6156位 | 林 宏美 | 2 | - | 0 | 0(32063位) |
6156位 | インターシア セラピューティクス,インコーポレイティド | 2 | ![]() |
1 | 1(11791位) |
6156位 | メルック・エプロバ・アクチエンゲゼルシヤフト | 2 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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