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2015年 特許ランキング

- 2024年11月25日 更新 -

2015年に発行された公報（公開特許公報，特許公報）に基づくランキングです。

特許出願件数ランキング

特許取得件数ランキング

2015年 出願公開分   - データ更新日：2024年11月25日 -

順位出願人件数前年順位前年件数2015年 特許取得件数
516位 株式会社栗本鐵工所 65 特許件数上昇 468位 75 43（549位）
522位 シーゲイト　テクノロジー　エルエルシー 64 - 69（376位）
522位 ノキア　コーポレイション 64 - 31（707位）
522位 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 64 特許件数下降 565位 57 29（750位）
522位 レノボ・シンガポール・プライベート・リミテッド 64 特許件数下降 549位 59 66（388位）
522位 ドルビー　ラボラトリーズ　ライセンシング　コーポレイション 64 - 49（500位）
522位 株式会社ファンケル 64 特許件数下降 679位 46 49（500位）
522位 東芝機械株式会社 64 特許件数上昇 350位 110 59（437位）
529位 クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド 63 特許件数下降 782位 38 18（1115位）
529位 株式会社日本製鋼所 63 特許件数上昇 402位 91 75（354位）
529位 株式会社堀場製作所 63 特許件数下降 533位 63 57（446位）
529位 アンリツ株式会社 63 特許件数上昇 484位 72 57（446位）
529位 株式会社ハーマン 63 特許件数上昇 503位 68 43（549位）
529位 独立行政法人理化学研究所 63 特許件数上昇 461位 77 48（513位）
529位 シスメックス株式会社 63 特許件数上昇 473位 74 95（288位）
529位 大正製薬株式会社 63 特許件数上昇 527位 64 46（524位）
529位 ぺんてる株式会社 63 特許件数上昇 521位 66 33（672位）
529位 株式会社ＪＯＬＥＤ 63 - 83（329位）
539位 ラム　リサーチ　コーポレーション 62 - 69（376位）
539位 グーグル・インコーポレーテッド 62 特許件数下降 583位 55 39（596位）
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特許出願件数ランキング

特許取得件数ランキング

2015年 特許登録分   - データ更新日：2024年11月25日 -

順位出願人件数前年順位前年件数2015年 出願公開件数
5375位 ▲高▼野　昌克 2 - 0（32490位）
5375位 マシモ　コーポレイション 2 - 0 0（32490位）
5375位 株式会社市川鉄工 2 - 0 3（5202位）
5375位 フィコ　トリアド，エセ．ア． 2 - 0（32490位）
5375位 株式会社シグマ 2 - 1（11806位）
5375位 株式会社平安コーポレーション 2 特許件数下降 10386位 1 1（11806位）
5375位 株式会社コンピュータシステム研究所 2 特許件数上昇 4898位 3 1（11806位）
5375位 ムスク　ファウンデーション　フォー　リサーチ　デベロップメント 2 - 0（32490位）
5375位 ニチレキ株式会社 2 特許件数下降 10386位 1 0（32490位）
5375位 クロリンエンジニアズ株式会社 2 特許件数上昇 4898位 3 0（32490位）
5375位 ニューヨーク　ユニバーシティ 2 - 0 1（11806位）
5375位 内山　俊一 2 - 1（11806位）
5375位 ティーティーアイ　インベンションズ　ディー　エルエルシー 2 - 1（11806位）
5375位 ケイマン　ケミカル　カンパニー，　インコーポレーテッド 2 - 1（11806位）
5375位 ナショナル　チャオ　ツン　ユニヴァーシティー 2 - 0（32490位）
5375位 ブンデスドルケライ　ゲーエムベーハー 2 - 1（11806位）
5375位 アバイア　インコーポレーテッド 2 - 1（11806位）
5375位 新日光能源科技股▲ふん▼有限公司 2 特許件数下降 6584位 2 2（7196位）
5375位 株式会社サンポー 2 特許件数上昇 4898位 3 1（11806位）
5375位 大連三高集団有限公司 2 - 0 0（32490位）
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。

各年の特許ランキング

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11月25日(月) - 岐阜 各務原市

オープンイノベーションマッチング in 岐阜

11月26日(火) - 東京 港区

企業における侵害予防調査

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特許拒絶理由通知対応の基本（化学）

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中国の知的財産政策の現状とその影響

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新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～

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