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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2015-232177	フッ素非含有タングステンで高アスペクト比フィーチャを充填する方法	2015年12月24日
特開 2015-221940	塩化タングステン前駆体を使用してタングステンおよび窒化タングステン薄膜を準備する方法	2015年12月10日
特開 2015-220458	マルチステーション基板堆積システムにおける一ＡＬＤサイクルの厚さ制御	2015年12月 7日
特開 2015-216360	不揮発性金属材料をエッチングする方法	2015年12月 3日
特開 2015-216391	基板をデチャックする方法	2015年12月 3日
特開 2015-216397	ＣＤの均一性を向上させるための基板温度調整を行う方法	2015年12月 3日
特開 2015-209592	還元剤としてＣｏ２＋金属イオン錯体またはＴｉ３＋金属イオン錯体を用いる連続パラジウム層の無電解析出	2015年11月24日
特開 2015-207777	多重周波数容量結合プラズマエッチングチャンバ	2015年11月19日
特開 2015-201622	真空統合ハードマスク処理および装置	2015年11月12日
特開 2015-201646	構成独立型のガス供給システム	2015年11月12日
特開 2015-201653	一体化閉じ込めリング装置およびその方法	2015年11月12日
特開 2015-196904	錯体Ｃｏ２＋金属イオン還元剤を使用した、連続プラチナ層の無電解堆積	2015年11月 9日
特開 2015-192150	不揮発性金属材料のエッチング方法	2015年11月 2日
特開 2015-181152	ウエハ均一性を改善するための装置および方法	2015年10月15日
特開 2015-181174	プラズマ処理チャンバの下側電極アセンブリ	2015年10月15日

62 件中 1-15 件を表示

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2015-232177 2015-221940 2015-220458 2015-216360 2015-216391 2015-216397 2015-209592 2015-207777 2015-201622 2015-201646 2015-201653 2015-196904 2015-192150 2015-181152 2015-181174

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