- 2025年2月6日 更新 -
2018年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2018年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月6日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2018年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
5373位 | イーメモリー テクノロジー インコーポレイテッド | 3 | ![]() |
4 | 3(3972位) |
5373位 | エムテックスマート株式会社 | 3 | ![]() |
1 | 1(8638位) |
5373位 | 株式会社安永 | 3 | ![]() |
3 | 1(8638位) |
5373位 | シンセティック ジェノミクス インコーポレーテッド | 3 | ![]() |
5 | 0(23370位) |
5373位 | ローデンシュトック ゲーエムベーハー | 3 | ![]() |
2 | 1(8638位) |
5373位 | 友達晶材股▲ふん▼有限公司 | 3 | ![]() |
2 | 1(8638位) |
5373位 | 株式会社石川エナジーリサーチ | 3 | ![]() |
3 | 0(23370位) |
5373位 | 日本ジッパーチュービング株式会社 | 3 | - | 0 | 0(23370位) |
5373位 | 学校法人 愛知医科大学 | 3 | - | 0 | 1(8638位) |
5373位 | ホイフト ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 3 | ![]() |
1 | 0(23370位) |
5373位 | ベレノス・クリーン・パワー・ホールディング・アーゲー | 3 | ![]() |
1 | 0(23370位) |
5373位 | ナノプレシジョン プロダクツ インコーポレイテッド | 3 | ![]() |
6 | 5(2781位) |
5373位 | アカル エネルギー リミテッド | 3 | ![]() |
2 | 1(8638位) |
5373位 | 中国科学院声学研究所 | 3 | ![]() |
7 | 3(3972位) |
5373位 | 山本 武史 | 3 | ![]() |
1 | 0(23370位) |
5373位 | 株式会社アイセン | 3 | ![]() |
9 | 0(23370位) |
5373位 | 丸山 政雄 | 3 | ![]() |
2 | 0(23370位) |
5373位 | 明和化成株式会社 | 3 | ![]() |
7 | 5(2781位) |
5373位 | 株式会社明和eテック | 3 | ![]() |
2 | 0(23370位) |
5373位 | 日本コントロールシステム株式会社 | 3 | - | 0 | 3(3972位) |
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2018年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月6日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2018年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
5366位 | ハー.ツェー.スタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 2 | ![]() |
5 | 0(33468位) |
5366位 | エーエフエル・テレコミュニケーションズ・エルエルシー | 2 | - | 0 | 2(7458位) |
5366位 | アストリアム リミテッド | 2 | ![]() |
7 | 3(5373位) |
5366位 | アマデウス エス.アー.エス. | 2 | ![]() |
10 | 0(33468位) |
5366位 | サントル ナスィオナル ド ラ ルシェルシュ スィアンティフィク(セ.エン.エル.エス.) | 2 | ![]() |
10 | 1(12401位) |
5366位 | インテレクチュアル ディスカバリー カンパニー リミテッド | 2 | ![]() |
4 | 4(4220位) |
5366位 | アカマイ テクノロジーズ インコーポレイテッド | 2 | ![]() |
2 | 0(33468位) |
5366位 | インヴェンサス・コーポレイション | 2 | ![]() |
8 | 1(12401位) |
5366位 | ヴァーレ、ソシエダージ、アノニマ | 2 | ![]() |
7 | 2(7458位) |
5366位 | カーギル・インコーポレイテッド | 2 | ![]() |
1 | 15(1542位) |
5366位 | コイズミファニテック株式会社 | 2 | ![]() |
3 | 3(5373位) |
5366位 | ケー2エム, インコーポレイテッド | 2 | - | 0 | 0(33468位) |
5366位 | スミス・アンド・ネフュー・オルソペディクス・アーゲー | 2 | ![]() |
1 | 2(7458位) |
5366位 | 株式会社岡田製作所 | 2 | ![]() |
1 | 1(12401位) |
5366位 | 株式会社タカトリ | 2 | ![]() |
3 | 7(2731位) |
5366位 | アディジェ ソシエタ ペル アチオニ | 2 | ![]() |
1 | 4(4220位) |
5366位 | ピアス株式会社 | 2 | ![]() |
5 | 5(3520位) |
5366位 | ザ・ブリガーム・アンド・ウーメンズ・ホスピタル・インコーポレーテッド | 2 | - | 0 | 2(7458位) |
5366位 | アセラ・バイオテクノロジーズ・アーベー | 2 | - | 0 | 0(33468位) |
5366位 | ゾーマ (ユーエス) リミテッド ライアビリティ カンパニー | 2 | - | 0 | 2(7458位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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