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三菱ケミカル株式会社商標データ

2025年1月29日更新

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商標ランキング2022年 110位(29件)  前年 97位(24件)
総区分数82区分1商標あたりの平均区分数2.83区分
類似群コード最頻出34A01 (出現率45%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ25類 & 24類 (出現率21%)
指定商品・指定役務総数9751商標あたりの平均数34
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位アク (出現率14%)
2位エム (出現率10%) 他
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位エイ (出現率14%)
2位シド (出現率10%) 他

商標登録第6521967号

商標
登録番号 6521967
商標タイプ
称呼 エムシイエスエス エムシイケミカルソリューションズフォーセミコンダクター エムシイ ケミカルソリューションズフォーセミコンダクター
区分
指定商品
指定役務
第1類
化学品
二酸化ケイ素
エッチング液(化学品)
シリコン化合物及び金属用のエッチング液
工業用ジェル状エッチング剤
エッチング剤
界面活性剤
帯電防止剤(家庭用のものを除く。)
工業用水溶性導電性ポリマー
ポリマー(化学品)
ポリマー樹脂
工業用導電性ポリマー
原料プラスチック
フォトレジスト材料用の感光性ポリマー
工業用感光性ポリマー
フォトレジスト
二酸化ケイ素粉末
二酸化ケイ素を原料とする化学品
半導体製造用エッチング液
塩酸
硝酸
アンモニア水
硫酸
工業用過酸化水素
工業用洗浄剤
製造工程用洗浄剤
半導体製造工程において使用する半導体ウェーハー洗浄剤
カーボンナノチューブを含有する原料プラスチック
カーボンナノチューブを含有する未加工のポリカーボネート樹脂
第19類
建築用又は構築用の非金属鉱物
シリカ(石英)
第37類
電子応用機械器具の修理又は保守
集積回路製造装置の修理又は保守
半導体製造装置の修理又は保守
真空ポンプの修理又は保守
第40類
金属の洗浄
半導体の洗浄
半導体ウェーハの洗浄
セラミックの洗浄
金属の加工
金属の表面加工
半導体の加工
半導体ウエハーの加工
半導体及び集積回路の組立加工
受託による半導体・ウエハーおよび集積回路の加工
アルマイト加工
金属溶射加工
プラスチック溶射加工
セラミック溶射加工
ガラス溶射加工
研磨
ブラスト加工
石英の加工
ニッケルめっき
樹脂コーティング加工
受託による金属材料の加工処理
受託によるプラスチック材料の加工処理
受託によるセラミック材料の加工処理
受託によるガラス材料の加工処理
金属材料の加工処理
プラスチック材料の加工処理
セラミック材料の加工処理
受託による金属部品及びその表面のコーティング加工
受託によるプラスチック部品及びその表面のコーティング加工
受託によるセラミック部品及びその表面のコーティング加工
受託によるガラス部品及びその表面のコーティング加工
金属のコーティング加工
金属の表面へのコーティング加工
プラスチックのコーティング加工
プラスチックの表面へのコーティング加工
セラミックのコーティング加工
セラミックの表面へのコーティング加工
半導体製造用のステッパーを含む真空装置及びハンドリングシステム、これらの装置及びシステムの部品、並びに半導体及び半導体素子用のこれらの装置及び部品の表面の加工処理及びコーティング加工
半導体製造用のステッパーを含む真空装置及びハンドリングシステムの表面の加工処理及びコーティング加工
半導体製造用のステッパーを含む真空装置及びハンドリングシステムの部品の表面の加工処理及びコーティング加工
半導体及び半導体素子製造用の真空装置及びハンドリングシステムの表面の加工処理及びコーティング加工
半導体及び半導体素子製造用の真空装置及びハンドリングシステムの部品の表面の加工処理及びコーティング加工
樹脂の加工
合成樹脂の加工
受託による合成樹脂・金属の加工
シリコンウェーハの再生
半導体製造工程用の使用済み部品の再生
金属めっき
めっき加工
ウェハに対するめっき加工
金属製品又は金属製部品の塗装・電気めっき・組立加工・精密加工
第42類
金属に関する試験・検査・分析又は研究
ウェハの検査及び分析
めっきに関する研究および開発
太陽電池及び発電に関する研究及び開発
類似群コード

第1類

01A01 04A01 10E01 34A01

第19類

06B01

第37類

37D05 37D06 37D27

第40類

40C01 40C02 40C03 40C04 40C05 40C06 40C08 40C10 40F02 40H99

第42類

42N03 42Q01 42Q02 42Q99
権利者

識別番号000006035

三菱レイヨン株式会社 三菱レイヨン株式会社 三菱ケミカル株式会社 三菱ケミカル株式会社 Mitsubishi Chemical Corporation 三菱ケミカル株式会社
出願日 2020年11月20日
登録日 2022年3月3日
代理人 田▲崎▼ 聡久我 貴洋樫村 亮吾

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