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Rise River Asset Co., LTD.商標データ

2024年12月27日更新

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商標ランキング2023年 38位(69件)  前年 110位(29件)
総区分数79区分1商標あたりの平均区分数1.14区分
類似群コード最頻出区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ10類 & 9類 他... (出現率1%)
指定商品・指定役務総数19451商標あたりの平均数28
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位カン (出現率16%)
1位シー (出現率16%)
2位カス (出現率14%)
2位キス (出現率14%) 他
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位カア (出現率16%)
1位シア (出現率16%)
2位カク (出現率14%)
2位キク (出現率14%) 他

商標登録第6693000号

商標
登録番号 6693000
商標タイプ
称呼 レンア
区分
指定商品
指定役務
第42類
半導体チップの設計
集積回路の設計
新製品の研究及び開発
受託による新製品の研究開発
科学技術に関する研究
技術的課題の研究
工業上の分析及び調査
科学に関する研究
科学及び技術的な研究
電気通信エンジニアリングに関する指導及び助言
電気工学の分野に関する研究
電気に関する試験・研究又は助言
電気工学技術に関する指導及び助言
半導体チップ部品または集積回路設計部品の処理装置およびその製造技術に関連するコンピュータデータベースの企画・設計・開発ならびにこれらに関するコンサルティング
集積回路設計部品に関連するコンピューターデータベース用プログラムの提供
国内的及び国際的なネットワーク経由による半導体ウェーハ及び集積回路の設計又は開発に関する情報の提供
半導体素子に関する試験又は研究に関する情報の提供
半導体製造用フォトマスク製品の製造技術に関する情報の提供
半導体製造用フォトマスクの設計
半導体ウェーハ技術に関する研究
受託による半導体チップの試験・検査・研究
半導体製造用フォトマスク・電子ウェーハ・半導体・ウェーハ・集積回路およびその部品の製造に関する試験又は評価並びにこれらに関する助言
自動車用半導体の設計
自動車用半導体チップの設計
シリコンウェーハ及び半導体の設計
受託による半導体製造用フォトマスク・集積回路・コンピュータチップおよび電子回路の設計および開発
受託による自動車用半導体チップの試験
インターネットを介した半導体チップまたは集積回路部品ならびにその処理装置に関する設計および開発に関する情報の提供
インターネットを介した半導体ウェーハの設計技術に関する情報の提供
半導体製品製造の技術的研究に関する助言
半導体チップの設計に関する専門的助言の提供
半導体又は集積回路の設計
電子回路・半導体素子・集積回路・大規模集積回路に関する試験又は研究に関する情報の提供
集積回路に関する試験又は研究
電子回路・半導体素子・集積回路・大規模集積回路の設計に関する情報の提供
類似群コード

第42類

42N02 42N03 42P02 42Q01 42Q02 42Q03 42Q99 42X11
権利者

識別番号522032903

東▲セン▼資産股▲フン▼有限公司 Rise River Asset Co., LTD.
出願日 2022年7月28日
登録日 2023年4月25日
代理人 SK特許業務法人奥野 彰彦伊藤 寛之

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