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2011年 89位(33件) 前年 88位(39件)
| 総区分数 | 50区分 | 1商標あたりの平均区分数 | 1.52区分 |
|---|---|---|---|
| 類似群コード最頻出 | 12A05 (出現率79%) | 区分組み合わせ最頻出 | 12類 & 7類 他... (出現率6%) |
| 指定商品・指定役務 | 総数 | 614 | 1商標あたりの平均数 | 19 |
|---|
| 称呼パターン |
先頭2音 組み合わせ
|
1位サン (出現率9%)
1位ブイ (出現率9%) 1位ブリ (出現率9%) |
2位アア (出現率6%)
2位イイ (出現率6%) 2位エコ (出現率6%) 他 |
|---|---|---|---|
|
先頭末尾音 組み合せ
|
1位ブル (出現率9%)
1位ブン (出現率9%) |
2位アイ (出現率6%)
2位エニ (出現率6%) 他 |
企業TOP/商標一覧
商標取得件数推移
商品役務 区分マップ
商品役務 区分組み合せマップ
称呼傾向マップ 先頭2音商標登録第5429789号
| 登録番号 | 5429789 |
|---|---|
| 標準文字 | |
| 商標タイプ | 標準文字商標 |
| 称呼 | ピュアベータ ピュア |
| 区分 指定商品 指定役務 |
第1類
化学品
第7類
炭化ケイ素 炭化ケイ素焼結体（化学品に属するものに限る。） 超高純度セラミックス基礎製品 半導体製造用の化学品 半導体製造装置及びその部品
第9類
半導体製造用治具 半導体製造用治具・工具及びその部品 半導体製造時の表面処理・洗浄・乾燥処理装置及びその部品 炭化ケイ素半導体ウェハ
第11類
炭化ケイ素単結晶半導体ウェハ 炭化ケイ素半導体デバイス用基板 単結晶半導体ウェハ 再生可能な半導体ウェハ シリコンウェハ 半導体用シリコンウェハ 半導体分析・検査装置及びその部品 理化学機械器具 写真機械器具 映画機械器具 光学機械器具 測定機械器具 電気通信機械器具 電子応用機械器具及びその部品 高純度炭化ケイ素焼結体で形成されている加熱器
炭化ケイ素ファインセラミックスで形成される乾燥装置 換熱器 蒸煮装置 蒸発装置 蒸留装置 熱交換器 暖冷房装置 |
| 類似群コード |
第1類 01A01 34E09 34E10 34E11第7類 09A68第9類 10A01 10B01 10C01 11B01 11C01第11類 09A06 09E11 19A02 |
| 権利者 |
識別番号000005278 株式会社ブリヂストン 株式会社ブリヂストン ＢＲＩＤＧＥＳＴＯＮＥ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ |
| 出願日 | 2010年12月2日 |
| 登録日 | 2011年8月5日 |
| 代理人 | 本多 一郎本多 敬子脇田 真希 |
