総区分数 | 5区分 | 1商標あたりの平均区分数 | 1.67区分 |
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類似群コード最頻出 | - | 区分組み合わせ最頻出 | 9類 & 7類 他... (出現率33%) |
指定商品・指定役務 | 総数 | 15 | 1商標あたりの平均数 | 5 |
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称呼パターン |
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1位エヌ (出現率33%)
1位シセ (出現率33%) 1位スマ (出現率33%) 1位ナイ (出現率33%) 1位ニオ (出現率33%) 他 |
- |
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1位エン (出現率33%)
1位シラ (出現率33%) 1位スイ (出現率33%) 1位スグ (出現率33%) 1位ナン (出現率33%) 他 |
- |
登録番号 | 6829093 |
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標準文字 | |
商標タイプ | 標準文字商標 |
称呼 | リアクティブナイオン リアクティブニオン リアクティブエヌイオン リアクティブ ナイオン ニオン エヌイオン |
区分 指定商品 指定役務 |
第7類
半導体製造装置
第9類
半導体ウエハ用薄膜形成装置 真空薄膜形成装置 プラズマを用いた重合薄膜形成装置 金属加工機械器具 イオン発生装置(空気清浄用又は浄水用を除く。)
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類似群コード |
第7類 09A01 09A68第9類 09A06 |
権利者 |
識別番号000002107 住友重機械工業株式会社 SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES,LTD. |
出願日 | 2023年11月9日 |
登録日 | 2024年7月30日 |
代理人 |