商標ランキング/商標調査ツール特許庁公報に基づく商標データを便利にお使い頂けます

CO2M‐Tech株式会社商標データ

2025年1月6日更新

商標ランキング一覧に戻る

商標ランキング2013年 115位(1件)  前年 位(件)
総区分数2区分1商標あたりの平均区分数2区分
類似群コード最頻出09A06... (出現率100%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ40類 & 7類 (出現率100%)
指定商品・指定役務総数121商標あたりの平均数12
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位エム (出現率100%)
1位シイ (出現率100%)
1位テク (出現率100%)
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位エク (出現率100%)
1位シク (出現率100%)
1位シム (出現率100%)
1位テク (出現率100%)

商標登録第5624376号

商標
登録番号 5624376
商標タイプ
称呼 シイオオニエムテック シイオオツーエムテック シイオオニエム シイオオツーエム エムテック テック
区分
指定商品
指定役務
第7類
気体分離用膜
気体分離用膜を用いた二酸化炭素分離装置
混合ガス分離装置
気体分離用膜を用いた混合ガス分離装置
化学機械器具
第40類
二酸化炭素の分離
二酸化炭素の除去
天然ガス・ガスの精製
天然ガス・ガスの生産
二酸化炭素促進輸送膜の製造
その他の気体分離膜の製造
化学機械器具の貸与
類似群コード

第7類

09A06

第40類

40H99 40J10
権利者

識別番号513241866

CO2M‐Tech株式会社
出願日 2013年1月29日
登録日 2013年10月25日
代理人 長谷川 芳樹小暮 君平森川 邦子浜田 廣士

知財ポータルサイト『IP Force』知財求人

募集時にメールをもらえる特許事務所・大学TLO等

メールをもらえる特許事務所,知財部など 続き

知財人材インタビュー企画『人×IP』Force