商標ランキング/商標調査ツール特許庁公報に基づく商標データを便利にお使い頂けます

西村陶業株式会社商標データ

2025年5月30日更新

商標ランキング一覧に戻る

商標ランキング2014年 107位(1件)  前年 114位(2件)
総区分数2区分1商標あたりの平均区分数2区分
類似群コード最頻出10A01... (出現率100%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ11類 & 9類 (出現率100%)
指定商品・指定役務総数131商標あたりの平均数13
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位エヌ (出現率100%)
1位ニシ (出現率100%)
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位エチ (出現率100%)
1位ニラ (出現率100%)
1位ニー (出現率100%)

商標登録第5634778号

商標
登録番号 5634778
商標タイプ
称呼 ニシムラトーギョー ニシムラ エヌキューエイチ エヌキューエッチ
区分
指定商品
指定役務
第9類
パーソナルコンピューター用・ノートブック型コンピューター用・半導体素子用・集積回路用・その他の電子応用機械器具用のヒートシンク
電気通信機械器具用のヒートシンク
写真機械器具用のヒートシンク
映画機械器具用のヒートシンク
光学機械器具用のヒートシンク
配電又は制御用の機械器具用のヒートシンク
回転変流機用のヒートシンク
調相機用のヒートシンク
理化学機械器具用のヒートシンク
測定機械器具用のヒートシンク
第11類
LEDを使用してなるスポットライト用・終夜灯用・その他の照明灯用の放熱板
LEDを使用してなる照明器具用の放熱板
LEDを使用してなる照明装置用の放熱板
類似群コード

第9類

10A01 10B01 10C01 11A01 11B01 11C01 11C02

第11類

11A02
権利者

識別番号000196336

西村陶業株式会社
出願日 2013年2月14日
登録日 2013年12月6日
代理人 近藤 利英子菅野 重慶山田 龍也岡田 薫阿部 寛志

知財ポータルサイト『IP Force』知財求人

募集時にメールをもらえる特許事務所・大学TLO等

メールをもらえる特許事務所,知財部など 続き

知財人材インタビュー企画『人×IP』Force