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株式会社ニューフレアテクノロジー商標データ

2024年11月29日更新

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商標ランキング2014年 107位(1件)  前年 位(件)
総区分数2区分1商標あたりの平均区分数2区分
類似群コード最頻出09A68... (出現率100%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ37類 & 7類 (出現率100%)
指定商品・指定役務総数121商標あたりの平均数12
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位エピ (出現率100%)
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位エボ (出現率100%)

商標登録第5679429号

登録番号 5679429
標準文字
商標タイプ 標準文字商標
称呼 エピレボ
区分
指定商品
指定役務
第7類
半導体ウェハ上に成膜する装置
半導体ウェハ上にエピタキシャル成長を行う装置
半導体ウェハ上に化合物半導体の膜を形成する装置
半導体製造用有機金属気相成長装置(MOCVD装置)
半導体製造用CVD装置
半導体製造用エッチング装置
その他の半導体製造装置
半導体製造装置に用いられる制御装置(減圧圧力制御装置・温度制御装置・回転制御装置を含む。)・ガス供給装置及びガス供給用部品・排ガス処理装置及び排ガス処理用部品・ウェハ搬送装置・ウェハ搬送用ロボット・ウェハ洗浄装置・温度測定装置・ウェハそり量測定装置
半導体製造装置・同装置用制御装置・同装置用ガス供給装置・同装置用排ガス処理装置・同装置用ウェハ搬送装置・同装置用ウェハ搬送用ロボット・同装置用ウェハ洗浄装置・同装置用温度測定装置・同装置用ウェハそり量測定装置に用いられる部品・付属品・配管具
第37類
半導体ウェハ上に成膜する装置・半導体ウェハ上にエピタキシャル成長を行う装置・半導体ウェハ上に化合物半導体の膜を形成する装置・半導体製造用有機金属気相成長装置(MOCVD装置)・半導体製造用CVD装置・半導体製造用エッチング装置・その他の半導体製造装置及びこれらの部品・付属品・配管具の修理・保守・設置
半導体製造装置に用いられる制御装置(減圧圧力制御装置・温度制御装置・回転制御装置を含む。)・ガス供給装置及びガス供給用部品・排ガス処理装置及び排ガス処理用部品・ウェハ搬送装置・ウェハ搬送用ロボット・ウェハ洗浄装置・温度測定装置・ウェハそり量測定装置及びこれらの部品・付属品・配管具の修理・保守・設置
半導体製造装置・同装置用制御装置・同装置用ガス供給装置・同装置用排ガス処理装置・同装置用ウェハ搬送装置・同装置用ウェハ搬送用ロボット・同装置用ウェハ洗浄装置・同装置用温度測定装置・同装置用ウェハそり量測定装置及びこれらの部品・付属品・配管具の修理・保守・設置に関する情報の提供
類似群コード

第7類

09A68

第37類

37A01 37D27
権利者

識別番号504162958

株式会社ニューフレアテクノロジー
出願日 2013年11月20日
登録日 2014年6月20日
代理人 特許業務法人 清水・醍醐特許商標事務所

知財ポータルサイト『IP Force』知財求人

募集時にメールをもらえる特許事務所・大学TLO等

メールをもらえる特許事務所,知財部など 続き

知財人材インタビュー企画『人×IP』Force