総区分数 | 2区分 | 1商標あたりの平均区分数 | 2区分 |
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類似群コード最頻出 | 09A68... (出現率100%) | 区分組み合わせ最頻出 | 37類 & 7類 (出現率100%) |
指定商品・指定役務 | 総数 | 12 | 1商標あたりの平均数 | 12 |
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称呼パターン | 先頭2音 組み合わせ |
1位エピ (出現率100%)
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- |
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先頭末尾音 組み合せ |
1位エボ (出現率100%)
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- |
登録番号 | 5679429 |
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標準文字 | |
商標タイプ | 標準文字商標 |
称呼 | エピレボ |
区分 指定商品 指定役務 |
第7類
半導体ウェハ上に成膜する装置
第37類
半導体ウェハ上にエピタキシャル成長を行う装置 半導体ウェハ上に化合物半導体の膜を形成する装置 半導体製造用有機金属気相成長装置(MOCVD装置) 半導体製造用CVD装置 半導体製造用エッチング装置 その他の半導体製造装置 半導体製造装置に用いられる制御装置(減圧圧力制御装置・温度制御装置・回転制御装置を含む。)・ガス供給装置及びガス供給用部品・排ガス処理装置及び排ガス処理用部品・ウェハ搬送装置・ウェハ搬送用ロボット・ウェハ洗浄装置・温度測定装置・ウェハそり量測定装置 半導体製造装置・同装置用制御装置・同装置用ガス供給装置・同装置用排ガス処理装置・同装置用ウェハ搬送装置・同装置用ウェハ搬送用ロボット・同装置用ウェハ洗浄装置・同装置用温度測定装置・同装置用ウェハそり量測定装置に用いられる部品・付属品・配管具 半導体ウェハ上に成膜する装置・半導体ウェハ上にエピタキシャル成長を行う装置・半導体ウェハ上に化合物半導体の膜を形成する装置・半導体製造用有機金属気相成長装置(MOCVD装置)・半導体製造用CVD装置・半導体製造用エッチング装置・その他の半導体製造装置及びこれらの部品・付属品・配管具の修理・保守・設置
半導体製造装置に用いられる制御装置(減圧圧力制御装置・温度制御装置・回転制御装置を含む。)・ガス供給装置及びガス供給用部品・排ガス処理装置及び排ガス処理用部品・ウェハ搬送装置・ウェハ搬送用ロボット・ウェハ洗浄装置・温度測定装置・ウェハそり量測定装置及びこれらの部品・付属品・配管具の修理・保守・設置 半導体製造装置・同装置用制御装置・同装置用ガス供給装置・同装置用排ガス処理装置・同装置用ウェハ搬送装置・同装置用ウェハ搬送用ロボット・同装置用ウェハ洗浄装置・同装置用温度測定装置・同装置用ウェハそり量測定装置及びこれらの部品・付属品・配管具の修理・保守・設置に関する情報の提供 |
類似群コード |
第7類 09A68第37類 37A01 37D27 |
権利者 |
識別番号504162958 株式会社ニューフレアテクノロジー |
出願日 | 2013年11月20日 |
登録日 | 2014年6月20日 |
代理人 | 特許業務法人 清水・醍醐特許商標事務所 |