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2015年 60位(51件) 前年 65位(43件)
| 総区分数 | 103区分 | 1商標あたりの平均区分数 | 2.02区分 |
|---|---|---|---|
| 類似群コード最頻出 | 11B01 (出現率90%) | 区分組み合わせ最頻出 | 42類 & 9類 (出現率84%) |
| 指定商品・指定役務 | 総数 | 2557 | 1商標あたりの平均数 | 50 |
|---|
| 称呼パターン |
先頭2音 組み合わせ
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1位エフ (出現率20%)
1位シイ (出現率20%) |
2位アイ (出現率12%)
2位エス (出現率12%) |
|---|---|---|---|
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先頭末尾音 組み合せ
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1位エイ (出現率20%)
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2位シイ (出現率18%)
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企業TOP/商標一覧
商標取得件数推移
商品役務 区分マップ
商品役務 区分組み合せマップ
称呼傾向マップ 先頭2音商標登録第5767300号
| 登録番号 | 5767300 |
|---|---|
| 商標タイプ | |
| 称呼 | クリスタルラインベーパーデポジションエスピイ クリスタルラインベーパーデポジション クリスタルラインベーパー クリスタルライン ベーパーデポジションエスピイ ベーパーデポジション ベーパー デポジションエスピイ デポジション |
| 区分 指定商品 指定役務 |
第7類
フラットパネルディスプレイ製造装置
物理蒸着法を用いた半導体製造装置 集積回路製造装置及びその部品 真空薄膜形成装置 積層半導体チップ製造装置 電子回路基板製造加工装置 電子部品製造装置 半導体・金属・絶縁体等の薄膜形成装置 半導体製造機械器具及びその部品 半導体製造装置およびその部品 半導体製造装置用プラズマ発生装置 半導体製造用の物理蒸着法による薄膜形成装置 半導体製造用装置 半導体素子製造装置 |
| 類似群コード |
第7類 09A68 09A99 |
| 権利者 |
識別番号000153878 株式会社半導体エネルギー研究所 ＳＥＭＩＣＯＮＤＵＣＴＯＲ ＥＮＥＲＧＹ ＬＡＢＯＲＡＴＯＲＹ ＣＯ．，ＬＴＤ． |
| 出願日 | 2015年1月15日 |
| 登録日 | 2015年5月29日 |
| 代理人 |
