総区分数 | 1区分 | 1商標あたりの平均区分数 | 1区分 |
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類似群コード最頻出 | 01A01... (出現率100%) | 区分組み合わせ最頻出 | - |
指定商品・指定役務 | 総数 | 8 | 1商標あたりの平均数 | 8 |
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称呼パターン | 先頭2音 組み合わせ |
1位イイ (出現率100%)
1位エキ (出現率100%) 1位エク (出現率100%) 1位エル (出現率100%) 1位ラル (出現率100%) |
- |
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先頭末尾音 組み合せ |
1位イル (出現率100%)
1位エル (出現率100%) 1位ラル (出現率100%) |
- |
登録番号 | 6221738 |
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標準文字 | |
商標タイプ | 標準文字商標 |
称呼 | イイエックスラル エクスラル エキスラル イイエックスエルエイエル エクスエルエイエル エキスエルエイエル ラル エルエイエル |
区分 指定商品 指定役務 |
第1類
半導体製造用エッチング液
プリント回路基板製造用エッチング液 エッチング液(酸類) 製造工程用洗浄剤 ふっ素化合物 ふっ素 工業用化学品 化学品 |
類似群コード |
第1類 01A01 04A01 |
権利者 |
識別番号000162847 ステラケミファ株式会社 ステラケミファ株式会社 ステラケミファ株式会社 STELLA CHEMIFA CORPORATION |
出願日 | 2019年1月30日 |
登録日 | 2020年2月3日 |
代理人 | 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所 |