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- 2025年2月7日 更新 -
2018年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2018年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2018年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
3054位 | クリスティ デジタル システムズ ユーエスエイ インコーポレイテッド | 6 | ![]() |
1 | 4(3222位) |
3054位 | 石田 齋 | 6 | ![]() |
3 | 0(23370位) |
3054位 | レッド・ブル・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 6 | ![]() |
1 | 2(5366位) |
3054位 | ストライカー・ユーロピアン・ホールディングス・I,リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | 6 | ![]() |
2 | 4(3222位) |
3054位 | 小野寺 智 | 6 | ![]() |
8 | 0(23370位) |
3054位 | 新日本ホイール工業株式会社 | 6 | - | 0 | 1(8638位) |
3054位 | サンスター スイス エスエー | 6 | ![]() |
10 | 7(2192位) |
3054位 | 株式会社エポック社 | 6 | ![]() |
2 | 2(5366位) |
3054位 | 株式会社タイコー | 6 | ![]() |
4 | 1(8638位) |
3054位 | サイジニア株式会社 | 6 | ![]() |
5 | 0(23370位) |
3054位 | イカリ消毒株式会社 | 6 | ![]() |
1 | 4(3222位) |
3054位 | ヴェー ウント ハー デンタルヴェルク ビュールモース ゲーエムベーハー | 6 | ![]() |
2 | 3(3972位) |
3054位 | 新輝合成株式会社 | 6 | ![]() |
2 | 1(8638位) |
3054位 | オプコ バイオロジクス リミテッド | 6 | - | 0 | 4(3222位) |
3054位 | ストローブ株式会社 | 6 | - | 0 | 0(23370位) |
3054位 | ジャイラス・エイシーエムアイ・インコーポレイテッド | 6 | ![]() |
4 | 3(3972位) |
3054位 | アークイス アンド アークイス エス アー | 6 | ![]() |
2 | 3(3972位) |
3054位 | エアーピオ セラピューティクス インコーポレイテッド | 6 | ![]() |
7 | 2(5366位) |
3054位 | 株式会社KMC | 6 | ![]() |
9 | 3(3972位) |
3054位 | 株式会社アルファTKG | 6 | ![]() |
2 | 0(23370位) |
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2018年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2018年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
2192位 | サンエディソン・セミコンダクター・リミテッド | 7 | ![]() |
4 | 13(1721位) |
2192位 | 日本ドライケミカル株式会社 | 7 | ![]() |
1 | 13(1721位) |
2192位 | エレメント シックス テクノロジーズ リミテッド | 7 | ![]() |
4 | 7(2731位) |
2192位 | 伸和コントロールズ株式会社 | 7 | ![]() |
11 | 27(993位) |
2192位 | ユニゾン・インダストリーズ,エルエルシー | 7 | ![]() |
9 | 22(1161位) |
2192位 | 東芝電波プロダクツ株式会社 | 7 | ![]() |
10 | 7(2731位) |
2192位 | コリア リサーチ インスティテュート オブ バイオサイエンス アンド バイオテクノロジー | 7 | ![]() |
1 | 3(5373位) |
2192位 | コニンクリーケ・ケイピーエヌ・ナムローゼ・フェンノートシャップ | 7 | - | 0 | 5(3520位) |
2192位 | 大豊精機株式会社 | 7 | ![]() |
1 | 2(7458位) |
2192位 | ゾディアック シーツ フランス | 7 | ![]() |
2 | 3(5373位) |
2192位 | キュンドン ナビエン シーオー.,エルティーディー. | 7 | ![]() |
3 | 12(1821位) |
2192位 | ケイティー コーポレーション | 7 | ![]() |
3 | 2(7458位) |
2192位 | ディーテリヒ・スタンダード・インコーポレーテッド | 7 | ![]() |
5 | 4(4220位) |
2192位 | 株式会社高井製作所 | 7 | - | 0 | 8(2449位) |
2192位 | ノヴァ ケミカルズ(アンテルナショナル)ソシエテ アノニム | 7 | ![]() |
3 | 8(2449位) |
2192位 | デーナ、オータモウティヴ、システィムズ、グループ、エルエルシー | 7 | ![]() |
9 | 10(2064位) |
2192位 | 日立オートモティブシステムズ阪神株式会社 | 7 | - | 0 | 9(2239位) |
2192位 | サンスター スイス エスエー | 7 | ![]() |
1 | 6(3054位) |
2192位 | スプリント コミュニケーションズ カンパニー エル.ピー. | 7 | ![]() |
2 | 1(12401位) |
2192位 | Primetals Technologies Japan株式会社 | 7 | ![]() |
4 | 3(5373位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月10日(月) -
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2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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