特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ウルトラテック　インク

※ ログインすれば出願人(ウルトラテック　インク)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第1978位　11件（2015年：第1851位　12件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第1540位　13件（2015年：第1417位　13件）

（ランキング更新日：2025年10月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

ウルトラテック　インクの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2016-540124	改善されたプラズマ強化ＡＬＤシステム	2016年12月22日
特表 2016-533645	シリコン基板上にデバイス品質の窒化ガリウム層を形成する方法及び装置	2016年10月27日
特開 2016-178305	レーザアニーリング用のパルスレーザ光線プロファイルの不均一性を減少させるためのシステム及び方法	2016年10月 6日
特表 2016-530708	格子転位を除去するための急速熱処理によるヘテロエピタキシャル層の形成	2016年 9月29日
特開 2016-122844	発光ダイオードを利用した材料の製造システムおよび製造方法	2016年 7月 7日
特開 2016-119470	超短期滞留時間でのレーザアニーリングシステム及び方法	2016年 6月30日
特開 2016-105470	欠陥アニーリング及びドーパント活性化のための高性能線形成光学システム及び方法	2016年 6月 9日
特開 2016-76686	周囲酸素ガスの局在化制御を用いた半導体ウエハのレーザアニーリング方法	2016年 5月12日
特開 2016-47958	酸素ラジカル生成を促進するためのＣＦ４を用いたラジカル強化原子層蒸着	2016年 4月 7日
特開 2016-32100	高性能線形成光学システム及び方法	2016年 3月 7日
特開 2016-9865	レーザアニーリングにおいて光線の不安定性を減少させるためのシステム及び方法	2016年 1月18日

11 件中 1-11 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2016-540124 2016-533645 2016-178305 2016-530708 2016-122844 2016-119470 2016-105470 2016-76686 2016-47958 2016-32100 2016-9865

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ウルトラテック　インクの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数