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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1793位 14件 (2016年:第1978位 11件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1630位 11件 (2016年:第1540位 13件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2017-201055 | 石英起因汚染物低減PE−ALD法 | 2017年11月 9日 | |
特表 2017-527117 | 改良型貫通シリコンビア | 2017年 9月14日 | |
特開 2017-161523 | ALDシステム用の石英結晶マイクロバランスアセンブリ | 2017年 9月14日 | |
特開 2017-122716 | CGS干渉分光法を用いた処理制御のためにプロセス誘導ウエハ形状を特徴化するシステムおよび方法 | 2017年 7月13日 | |
特開 2017-111147 | 選択可能な画素密度を有する全ウエハ検査方法 | 2017年 6月22日 | |
特開 2017-98539 | 自己組織化単分子層を用いたALD抑制層の形成方法 | 2017年 6月 1日 | |
特開 2017-92454 | 高スループットの複数チャンバ原子層堆積システムおよび方法 | 2017年 5月25日 | |
特開 2017-75391 | 回転反応管を有するプラズマ助長原子層堆積システム | 2017年 4月20日 | |
特開 2017-61743 | 2D金属カルコゲニド薄膜のレーザ利用原子層堆積 | 2017年 3月30日 | |
特表 2017-505383 | 蒸気供給システム | 2017年 2月16日 | |
特開 2017-28270 | 電極系デバイス用のALD処理のためのマスキング方法 | 2017年 2月 2日 | |
特開 2017-28281 | 鋸歯状の空間フィルタを用いた高性能線形成光学システム及び方法 | 2017年 2月 2日 | |
特開 2017-3590 | 偏光系コヒーレント勾配検知システムおよび方法 | 2017年 1月 5日 | |
特開 2017-5251 | 局在化処理ガス雰囲気を用いるマイクロチャンバレーザ処理システムおよび方法 | 2017年 1月 5日 |
14 件中 1-14 件を表示
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2017-201055 2017-527117 2017-161523 2017-122716 2017-111147 2017-98539 2017-92454 2017-75391 2017-61743 2017-505383 2017-28270 2017-28281 2017-3590 2017-5251
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