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ウルトラテック インク
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1851位 12件
（
2014年： 0件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1417位 13件
（2014年： 0件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ウルトラテック インクの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2015-219522 | 紫外線損傷に対する感受性を減少させたウイン−ダイソン投影レンズ | 2015年12月 7日 | |
| 特開 2015-188065 | オゾンプラズマを用いた酸素ラジカル強化原子層蒸着 | 2015年10月29日 | |
| 特開 2015-181197 | ハンダ相互接続パッド構造及びこれの製造方法 | 2015年10月15日 | |
| 特開 2015-167252 | 窒化ガリウム発光ダイオード | 2015年 9月24日 | |
| 特開 2015-164194 | 滞留時間が非常に短いレーザアニールシステムおよび方法 | 2015年 9月10日 | |
| 特開 2015-164206 | パターン効果を低減したＧａＮＬＥＤのレーザーアニール | 2015年 9月10日 | |
| 特開 2015-130483 | ファイバレーザーを使用したレーザースパイクアニーリング | 2015年 7月16日 | |
| 特開 2015-128176 | 鉛フリーＣ４相互接続の信頼性を改善するための構造体及び方法 | 2015年 7月 9日 | |
| 特開 2015-96460 | 格子調整ドメイン−マッチングエピタキシーを用いた化合物半導体のエピタキシャル成長 | 2015年 5月21日 | |
| 特開 2015-42972 | 高強度光線測定システム、及び方法 | 2015年 3月 5日 | |
| 特開 2015-43083 | 可変倍率を有するウィン−ダイソン光学システム | 2015年 3月 5日 | |
| 特開 2015-34987 | 気体環境中のフォトレジストをレーザ処理する方法 | 2015年 2月19日 |
12 件中 1-12 件を表示
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2015-219522 2015-188065 2015-181197 2015-167252 2015-164194 2015-164206 2015-130483 2015-128176 2015-96460 2015-42972 2015-43083 2015-34987
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