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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第4129位 4件 (2011年:第4080位 4件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第25637位 0件 (2011年:第9278位 1件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2012-533684 | 製造システム内における堆積物形成の抑止方法 | 2012年12月27日 | |
特表 2012-509462 | 不純物を含む組成物の分析方法 | 2012年 4月19日 | |
特表 2012-507462 | テトラクロロシランを用いて壁面析出を減少させる、流動床反応器によるシリコンの製造 | 2012年 3月29日 | |
特表 2012-504097 | 汚染材料が高純度シリコンに寄与する不純物の量を決定する方法及び高純度シリコンを処理する炉 | 2012年 2月16日 |
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2012-533684 2012-509462 2012-507462 2012-504097
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10月7日(月) -
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10月8日(火) - 東京 中央区
10月9日(水) - 東京 港
10月9日(水) -
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10月10日(木) -
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10月11日(金) - 兵庫 神戸市
10月11日(金) -
10月11日(金) -
10月7日(月) -
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10月15日(火) - 東京 港区
10月16日(水) - 東京 港
10月16日(水) -
10月16日(水) -
10月16日(水) -
10月16日(水) -
10月16日(水) -
10月17日(木) - 東京 品川
10月17日(木) - 東京 港
10月18日(金) - 東京 23区
10月15日(火) - 東京 目黒区
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