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ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーション
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第4129位 4件
（
2011年：第4080位 4件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第25637位 0件
（2011年：第9278位 1件）
（ランキング更新日：2025年5月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2012-533684 | 製造システム内における堆積物形成の抑止方法 | 2012年12月27日 | |
| 特表 2012-509462 | 不純物を含む組成物の分析方法 | 2012年 4月19日 | |
| 特表 2012-507462 | テトラクロロシランを用いて壁面析出を減少させる、流動床反応器によるシリコンの製造 | 2012年 3月29日 | |
| 特表 2012-504097 | 汚染材料が高純度シリコンに寄与する不純物の量を決定する方法及び高純度シリコンを処理する炉 | 2012年 2月16日 |
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2012-533684 2012-509462 2012-507462 2012-504097
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